中古真空コンポーネント、トランスファーロッドの販売、在庫紹介

トランスファーロッドの基本構造と仕組み

真空コンポーネントにおけるトランスファーロッドは、密閉された真空容器（チャンバー）内の真空状態を維持したまま、大気側からの操作によって内部のサンプルや基板などの搬送物を移動させるための直動・回転導入機構です。大気と真空を隔てる壁を越えて運動を伝達する役割を果たします。

主な駆動仕組みには「マグネット結合方式（磁気結合式）」と「ベローズ伸縮方式」の2種類があります。

最も一般的であるマグネット結合方式は、真空隔壁を挟んで大気側の駆動マグネットと真空側の従動マグネットを対向させ、磁力によって非接触で運動を伝達する構造です。物理的な軸貫通部が存在しないため、超高真空（UHV）環境においても気体漏れ（リーク）のリスクが極めて低く、高い気密性を維持できます。直線運動（前後進）だけでなく、軸を中心とした回転運動を同時に伝達できるモデルも多く存在します。

一方のベローズ伸縮方式は、金属製のベローズ（蛇腹状の管）を用いて真空封止を行いながら、内部のロッドを機械的に移動させる仕組みです。磁気の影響を受けない構造であるため、強力な磁場が存在する環境や、より重い搬送物を高精度に保持・移動させる用途に適しています。


トランスファーロッドの主な特徴

1. 超高真空環境への高度な適応性
10のマイナス8乗パスカル（Pa）を超えるような極限的な真空環境を破ることなく動作可能です。構成部材には、ガス放出（アウトガス）の少ないSUS316Lなどの高品質ステンレス鋼や特殊セラミックスが使用されており、システムの清浄度を極めて高く保つことができます。

2. 長ストロークと精密な位置決め能力
数百ミリメートルから2メートルを超える長ストローク（移動距離）に対応しつつ、ミリ単位・サブミリ単位の精密な位置調整が可能です。直線運動と回転運動を組み合わせることで、複雑な空間配置にある受け渡し場所へも正確にアプローチできます。

3. 多機能なエンドエフェクター（先端機構）の装着
ロッドの先端には、搬送対象を保持するためのグリッパ（爪）やサンプルホルダーが取り付けられます。また、搬送と同時にサンプルを加熱・冷却するための配線や、熱電対を通す構造を持たせた高機能モデルもあり、搬送中の環境制御が可能です。


トランスファーロッドの主な用途

1. 半導体・電子デバイス製造装置
シリコンウェハや基板を、大気と真空の緩衝帯であるロードロック室から、各種プロセス（成膜・エッチング等）を行うメインチャンバーへ移送する用途で使用されます。真空を破らずに連続処理を行うため、生産性の向上と異物混入の防止に不可欠です。

2. 表面分析・材料解析装置
X線光電子分光装置（XPS）、オージェ電子分光装置（AES）、走査型トンネル顕微鏡（STM）などの分析・解析機器で広く活用されています。サンプルの前処理（加熱やスパッタ洗浄）を行うチャンバーから、超高真空下の測定チャンバーへと、清浄な状態を保ったまま微小な試料を正確に搬送します。

3. 薄膜形成装置（PVD・CVD・MBE）
スパッタリング装置や分子線エピタキシー（MBE）装置において、基板の搬入・搬出や、複数の成膜室間をまたぐサンプルの移動に使われます。高品質な多層膜の形成や異種材料の連続成膜プロセスを支えています。

4. 先端科学・量子技術の研究分野
放射光施設や粒子加速器に接続された実験環境、低温・超伝導状態での物性測定装置など、高度に制御された極限環境下におけるサンプルハンドリングツールとして多用されています。