中古EB蒸着機の在庫・価格

電子ビーム蒸着（EB蒸着）は、真空中で電子線を用いて蒸着材料を加熱・蒸発させ、対象物の表面に薄膜を形成する真空蒸着技術の一種です。高度な光学薄膜や半導体、電子部品の製造において広く利用されています。\n
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■ 電子ビーム蒸着の仕組み\n
電子ビーム蒸着の仕組みは、加熱源として高速の電子線（電子ビーム）を利用する点に大きな特徴があります。装置内部は高真空状態に保たれており、フィラメント（陰極）を加熱することで発生した電子を高電圧で加速します。加速された電子ビームは磁場によって軌道を曲げられ、ハースと呼ばれる水冷銅容器（坩堝）の中にセットされた蒸着材料に局所的に照射されます。照射された材料は電子の持つ運動エネルギーが熱エネルギーへと変換されることで急激に加熱され、融点の高い金属やセラミックスであっても瞬時に溶融・蒸発します。蒸発した物質は真空内を直進し、対向して配置された基板の表面に付着・堆積して均一な薄膜を形成します。\n
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■ EB蒸着機の特徴とメリット\n
EB蒸着機には、他の膜形成技術と比較して多くのすぐれた特徴があります。第一に、非常に高いエネルギー密度を持つため、高融点材料の成膜が可能である点です。タングステンやモリブデンなどの高融点金属や、酸化物・窒化物といったセラミックス材料も容易に蒸発させることができます。第二に、膜の純度が高いことが挙げられます。蒸着材料を入れるハースは水冷されているため、容器自体が加熱されて材料と反応したり、容器の材質が不純物として混入したりするリスクが極めて低く抑えられます。第三に、成膜スピード（蒸着速度）が非常に速い点です。電子ビームの出力や焦点を制御することで、必要な箇所だけを効率よく加熱できるため、生産性に優れた薄膜形成が行えます。さらに、マルチハース機構を備えた装置では、複数の材料を同じ真空槽内で切り替えて照射できるため、異なる薄膜を連続して重ね合わせる多層膜の形成も容易に行えます。一方で、電子ビームの照射に伴いX線が発生するため遮蔽対策が必要である点や、材料の局部加熱による突沸（スプラッシュ）現象への対策が求められるといった技術的側面もあります。\n
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■ EB蒸着機の主な用途\n
電子ビーム蒸着の用途は、その高い成膜品質と高速性から多岐にわたる産業分野へ広がっています。代表的な分野の一つが光学分野です。カメラレンズや眼鏡レンズ、顕微鏡、光学フィルターなどの表面に施される反射防止膜や高反射ミラー、特定波長のみを透過させるバンドパスフィルターなどの多層光学薄膜の製造にはEB蒸着機が不可欠です。屈折率の異なる酸化物材料などを精密に多層積層することで、高い光学特性を実現しています。半導体や電子部品の分野でも重要な役割を果たしています。積層ICやLED、パワー半導体などの電極形成用金属膜（アルミニウム、金、チタン、プラチナなど）の成膜に広く用いられています。さらに、ディスプレイ分野においては、有機ELや液晶パネルの透明導電膜やバリア膜の形成に活用されています。そのほか、自動車のヘッドライト反射鏡への金属蒸着や、高い耐熱性・耐摩耗性が求められる切削工具へのコーティング、包装用フィルムへの金属バリア膜付与など、高機能な表面処理技術として幅広い製品の製造プロセスを支えています。