中古 アドバンスドエナジー（AE） スパッタ電源 MDX-L12M

真空装置は、密閉した容器(チャンバー)の中を真空にして、その中で薄膜を付ける、削る、表面を洗う、加熱する、接合するといった処理を行う装置の分野である。真空中で処理する理由は大きく三つある。大気中の酸素や水分を除いて試料の酸化や汚染を防ぐこと、気体分子との衝突を減らして蒸発した原子やイオンをまっすぐ届けること、低い圧力でプラズマを安定して立てることである。半導体や電子部品、光学部品の製造から、大学や研究機関の試料作りまで幅広く使われている。
いちばん大きな柱は成膜装置で、スパッタ装置、真空蒸着機、EB蒸着機、CVD装置などがここに入る。スパッタと蒸着は材料を物理的に飛ばして膜にする方法、CVDはガスの化学反応で膜を作る方法である。電子顕微鏡の試料に導電性の膜を付けるイオンコーターやカーボンコーターも、小型の成膜装置の仲間として扱われる。研究室向けの卓上の小型機から、ロードロック室を備えて基板を連続で処理する量産機まで、大きさと処理能力の幅が広いのもこの分野の特徴である。
削る・洗う側には、プラズマで薄膜を加工するドライエッチング装置、レジストなどの有機物を灰化して取り除くアッシャー、酸素やアルゴンのプラズマで表面の汚れを除いたり濡れ性を変えたりするプラズマクリーナー、アルゴンのイオンビームで試料を物理的に削るイオンミリングがある。イオンミリングは、電子顕微鏡で観察する断面や平面の試料作りにも使われる。
熱や接合を扱う装置もこの分野に入る。真空加熱装置は酸化させずに熱処理や脱ガスを行い、放電プラズマ焼結装置は粉末に圧力とパルス状の電流をかけて短い時間で焼き固める。陽極接合装置はガラスとシリコンなどを熱と電圧で貼り合わせ、MEMSやセンサーの封止に使われる。昇華精製装置は有機半導体などの材料を真空中で昇華させて精製し、液晶注入装置は液晶パネルのセルに真空を利用して液晶を満たす。
どの装置も、チャンバー、粗引きポンプと高真空ポンプからなる排気系、真空計、ガスを流す系統、プラズマや加熱のための電源、冷却水と制御部の組合せでできている。排気系やガス系、電源は別の分野の機器として単独でも流通しており、装置の一部を入れ替えたり、手持ちのチャンバーに組み合わせて研究用の装置を組み立てたりすることも多い。選ぶときは、まず何をしたいか(付ける・削る・洗う・焼く・貼る)で装置の種類を決め、次に方式、試料や基板の大きさ、一度に処理する数、使うガスの種類で絞り込む。中古では、排気系や電源など装置を構成する部品が揃っているかと、前に使っていたプロセスが状態を大きく左右する。