中古 ミリポア Millipore 純水・超純水製造装置 Direct-Q 3UV

超純水設備の特徴

超純水設備とは、水に含まれる不純物を極限まで除去し、理論上の純粋な水（H2O）に近い高純度な水を製造・供給する産業用ユーティリティ機器です。一般の水道水や工業用水に含まれる塩類、有機物、微粒子、細菌、溶解ガスなどを、ナノレベルあるいはppt（1兆分の1）レベルまで徹底的に取り除きます。

この設備で製造される超純水は「極めて強い物質溶解力と腐食性」を持つという大きな特徴があります。不純物がほとんど存在しない水は化学的に不安定な状態にあり、接触する周囲の物質を溶かし込もうとする性質が働きます。そのため、設備の接液部や送水配管には、金属の溶出がない高純度フッ素樹脂（PVDFやPFA）などの特殊素材が用いられます。また、空気中の二酸化炭素や微小な粉塵に触れるだけでも容易に再汚染されるため、システム全体を密閉し、配管内を常に超純水が循環し続ける構造になっています。

超純水設備で水を精製する仕組み

超純水設備は単一の装置ではなく、複数の高度な水処理技術を段階的に組み合わせたシステムとして機能します。主に「前処理」「一次純水製造」「二次純水製造（サブシステム）」の3工程で構成されています。

前処理工程では、原水に含まれる大きなゴミや濁り、残留塩素などを砂ろ過や活性炭フィルターで除去し、後続の精密な膜や樹脂を保護します。続く一次純水製造工程では、逆浸透（RO）膜や連続イオン交換（EDI）装置を用い、水中のイオン類や有機物の大部分を取り除き、一般的な純水レベルまで純度を高めます。

最終段階である二次純水製造工程は、水の供給先（ユースポイント）の直前に設置されます。ここでは、紫外線（UV）照射装置による微量有機物（TOC）の分解と殺菌、脱気膜による溶解酸素の除去、ウルトラフィルター（UF膜）による超微細粒子や細菌死骸のろ過を行い、極限まで精製された超純水を完成させます。

超純水設備の主な用途

超純水設備は、製品品質や歩留まりに直結する先進的な製造現場で欠かせないインフラです。

代表的な用途が「半導体・電子部品製造分野」です。シリコンウェハや液晶パネルの微細な回路を洗浄する際、極小のゴミや金属イオンが残っていると回路の短絡や不良の原因となるため、大量の超純水が消費されます。

「医薬品・バイオ分野」では、注射剤の希釈水や原薬の合成、製薬機器の洗浄に使用されます。細菌や発熱性物質（エンドトキシン）を徹底排除した、安全性の高い水を確保するために不可欠です。

その他にも、「発電プラント」における高圧ボイラの給水として利用されます。水の中の不純物がボイラ内部で固着してスケール化したり、タービンを腐食させたりするトラブルを防ぎます。また、研究機関での「精密分析用途」など、多岐にわたる分野で活用されています。