中古 アルバック理工 赤外線ゴールドイメージ炉 MILA3000-P-N
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- メーカー
- アルバック理工
- 型式
- MILA3000-P-N
- 機種
- ランプアニール炉
- ほかの分野
- 半導体熱処理炉（酸化炉・RTP・エピ）
- 年式
- 2006.01
- 仕様
- 銘板：200V、4kW
- 管理番号
- Z26073001
- 引渡・支払
- 現状有姿/出荷前銀行振込(公的機関は後払い可)
MILA3000-P-N の参考仕様
型式の一般的な値を、AIがメーカー資料などから調べたものです。この個体を測った値ではありません。
| 温度範囲 | 室温〜1200 ℃ |
|---|---|
| 最高昇温速度(真空中) | 50 ℃/sec |
| 最高昇温速度(窒素ガス中) | 45 ℃/sec |
| 温度分布(1200℃・真空中) | ±2.0 ℃ |
| 温度分布(1200℃・窒素ガス中) | ±4.5 ℃ |
| 加熱雰囲気 | 大気中、真空中、不活性ガス |
| 試料サイズ(最大) | 20W×20L×2.0T mm |
| ランプ定格 | 1kW×4本(100V) |
| 温度制御センサー | JIS熱電対K(固定) |
| 温度プログラム | 99ステップ/パターン、最大99パターン |
| 電源 | 単相AC200V 4kW |
| 冷却水 | 市水 圧力3kg/cm2以上 流量4L/min |
| 真空引口 | NW25-KF |
| ガス導入口・排気口 | 1/4インチSwagelok継手 |
| 外形寸法(突起物を除く) | 360W×179H×307D mm |
※型式は MILA3000-[P/M]-[N/F] の組み合わせで、Pはプログラム操作型・Mはマニアル操作型、Nは近赤外線ランプの高温型・Fは遠赤外線ランプの均熱型を示す。本機はP-N型で、F型は最高800℃・電源1kWと仕様が異なる。
※上記の昇温速度と温度分布はニッケル板0.5t×20W×20Lでの計測値で、試料の材質や大きさにより変動する。
※電源コードと水冷ホースは標準では付属しない。高真空排気装置、冷却水循環ユニット、ガスフローユニット、試料観察用CCDカメラユニットはいずれもオプションのため、現品の付属状況は要確認。
※熱電対断線と過昇温設定の保安機能はプログラム操作型のみに備わる。
出典: メーカー資料
アルバック理工 MILA3000-P-N の装置概要 AIによる記述です
赤外線ゴールドイメージ炉と呼ばれる卓上型のランプ加熱装置で、放物面反射鏡で赤外線ランプの光を試料に集光し、非接触で急速に加熱する。型式末尾のNは近赤外線ランプを使う高温型を示し、室温から最高1200℃まで、真空中では最大50℃/sec、窒素ガス中では45℃/secの昇温速度が得られる。炉体は断熱材を持たず常時水冷される構造のため降温も速く、昇温と冷却を繰り返す熱サイクル試験や、Siウエハーの急速熱処理(RTA)、強誘電体薄膜の結晶化アニール、コーティング膜の耐熱評価などに使われる。試料は透明石英製の保護管の中に置き、大気中のほか真空中や不活性ガス雰囲気で加熱できる。背面にNW25-KFの真空引口と1/4インチSwagelok継手のガス導入・排気口があり、排気装置やガスフローユニットは別売のオプションとなる。型式のPはプログラム操作型を示し、温度対時間のプログラムを99ステップ×最大99パターン設定でき、PIDとファジー制御、オートチューニング、前面パネルのRS-232C通信に対応する。温度制御用センサーはJIS熱電対Kで固定である。
※AIによる参考情報です。実際の仕様・付属品・状態は個体により異なります。ご不明な点はお問い合わせください。
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