中古 日立 Hitachi E-1010（イオンコーター）の在庫 2台

イオンコーターは、真空環境下で発生させる放電現象を利用し、試料の表面に金、白金、炭素などの極めて薄い膜をコーティングする装置です。主に走査型電子顕微鏡（SEM）で観察を行う際の試料前処理装置として、科学研究や産業界の品質管理などで広く用いられています。

■ イオンコーターの仕組み

イオンコーターの動作原理は、真空状態におけるグロー放電とスパッタリング現象に基づいています。
まず、装置内の真空チャンバー内を数Paから十数Pa程度の低真空状態まで減圧します。この状態でチャンバー内に微量のアルゴンなどの不活性ガスを導入し、対向する電極間に数百から数千ボルトの高電圧を印加します。

電圧が加わると、気体分子が電離してプラズマ状態が発生します。プラズマ内で生じたプラスのイオンは、負の電極に配置されたコーティング材料（ターゲット）に向かって高速で加速され、強いエネルギーで衝突します。この衝突によってターゲット表面の原子や分子が物理的に弾き出される現象をスパッタリングと呼びます。

弾き飛ばされた超微粒子はチャンバー内を飛散し、対向して配置された試料の表面に付着・堆積していきます。その結果、試料の表面には数ナノメートルから数十ナノメートルという非常に薄く均一な薄膜が形成されます。

■ イオンコーターの主な特徴

イオンコーターには、他の被膜形成技術や加熱蒸着法と比較して以下のような優れた特徴があります。

1. 膜厚の均一性と再現性
スパッタリングによって形成される膜は構成粒子のサイズが極めて小さく、複雑な立体構造や凹凸を持つ試料であっても、全体にわたってムラなく均一にコーティングできます。また、放電電流値や処理時間を制御することで膜厚を正確に管理できるため、常に再現性の高い結果が得られます。

2. 試料に対する熱ダメージの少なさ
熱線を用いて材料を蒸発させる真空蒸着法とは異なり、イオンコーターのスパッタリング処理は比較的低温で行われます。そのため、動植物の組織や細胞といった生体試料、あるいは融点の低いプラスチックや高分子材料など、熱の影響を受けやすい試料でも損傷を与えることなく処理が可能です。

3. 簡便な操作性と短い処理時間
装置自体がコンパクトで操作が簡略化されている点も特徴です。試料をセットしてから真空引き、コーティング処理が完了するまでの工程が数分程度と非常に短い時間で完了するため、分析作業全体の効率化につながります。

■ イオンコーターの主な用途

イオンコーターは、顕微鏡観察の前処理を中心に幅広い分野で活用されています。

1. 走査型電子顕微鏡（SEM）の前処理
最も代表的な用途が、SEM観察におけるチャージアップ（帯電）防止です。プラスチック、ガラス、セラミックス、生物組織などの絶縁体試料に電子線を照射すると、表面に電荷が滞留して画像が歪んだり異常な発光が生じるチャージアップ現象が起こります。イオンコーターで導電性の金属膜（金や白金など）を被覆することで電荷を逃がし、鮮明で高分解能な画像観察が可能になります。また、金属膜の塗布により二次電子の発生効率が高まり、観察像のコントラストも向上します。

2. 透過型電子顕微鏡（TEM）の試料作製
TEM観察で用いられる微細なグリッド用の支持膜形成や、構造の立体感を際立たせるためのシャドーイング処理（斜め方向からの薄膜蒸着）にも応用されます。

3. 表面改質および親水化処理
ターゲット材料を取り外した状態で放電を行うことで、試料の表面特性を変化させる用途もあります。例えば、水滴を弾きやすいカーボン支持膜や樹脂表面を親水性に改質し、水溶液試料の定着性を高めるための前処理として利用されます。

4. 半導体・新材料の研究開発
ナノレベルの薄膜形成技術を応用し、半導体素子の基礎研究、電極の試作、保護膜の形成評価など、材料開発の分野でも広く役立てられています。