中古 真空計
メーカー名
MKS
型式852B13TCA3GA
年式表記：
仕様:
仕様:
本体価格(税別、送料別)
100,000円
【AIによる装置概要】
本装置は、半導体製造プロセスや各種真空システムで広く利用される静電容量式真空計（キャパシタンスマノメーター）です。ダイアフラム（隔膜）が受ける圧力による微小な変位を静電容量の変化として検知する原理を採用しており、測定対象のガス種や組成に依存せず、正確な絶対圧測定が可能です。
型番の構成仕様より、本モデルはフルスケール1000 Torr（約133.3 kPa）の測定レンジを有しており、低真空領域から大気圧付近までのチャンバー圧力のモニタリングやプロセス制御に最適です。センサーの接ガス部にはインコネルなどの耐食性に優れた金属材料が使用されており、エッチングやCVD工程などで用いられる腐食性のプロセスガスに対しても高い耐久性を発揮します。
また、外部機器とのインターフェースとして標準的な直流電圧によるアナログ出力を備えており、既存のプロセス制御システムや真空コントローラーへの組み込みが容易に行える設計となっています。長期間にわたるゼロ点の安定性と高い測定精度により、厳密な圧力管理が求められる環境下で信頼性の高いデータを提供します。
【AIによる参考仕様】
・測定方式：静電容量式（絶対圧測定）
・フルスケールレンジ：1000 Torr (約133.3 kPa)
・ガス依存性：なし（実際の圧力を直接測定）
・接ガス部材質：インコネル等の耐食性金属合金
・プロセス接続継手：1/2インチ VCRメス（相当）
・アナログ出力信号：0 ～ 10 VDC（非線形またはリニア出力）
・駆動電源：±15 VDC
・電気接続コネクタ：15ピン D-subコネクタ
・測定精度：読み値の±0.12% ～ ±0.25%（仕様クラスに依存）
・主な用途：真空チャンバーの圧力管理、半導体製造装置（CVD、エッチング、スパッタ等）におけるプロセスガスの圧力制御
※上記は型番の各コード（レンジ、継手、電源・出力、コネクタ形状など）に基づく同シリーズの共通仕様を抽出した参考データです。複数モデルを展開するシリーズの特性上、内蔵加熱ヒーターの有無や設定温度などの詳細仕様については、実機の仕様ラベル等の記載内容をあわせてご確認ください。
本装置は、半導体製造プロセスや各種真空システムで広く利用される静電容量式真空計（キャパシタンスマノメーター）です。ダイアフラム（隔膜）が受ける圧力による微小な変位を静電容量の変化として検知する原理を採用しており、測定対象のガス種や組成に依存せず、正確な絶対圧測定が可能です。
型番の構成仕様より、本モデルはフルスケール1000 Torr（約133.3 kPa）の測定レンジを有しており、低真空領域から大気圧付近までのチャンバー圧力のモニタリングやプロセス制御に最適です。センサーの接ガス部にはインコネルなどの耐食性に優れた金属材料が使用されており、エッチングやCVD工程などで用いられる腐食性のプロセスガスに対しても高い耐久性を発揮します。
また、外部機器とのインターフェースとして標準的な直流電圧によるアナログ出力を備えており、既存のプロセス制御システムや真空コントローラーへの組み込みが容易に行える設計となっています。長期間にわたるゼロ点の安定性と高い測定精度により、厳密な圧力管理が求められる環境下で信頼性の高いデータを提供します。
【AIによる参考仕様】
・測定方式：静電容量式（絶対圧測定）
・フルスケールレンジ：1000 Torr (約133.3 kPa)
・ガス依存性：なし（実際の圧力を直接測定）
・接ガス部材質：インコネル等の耐食性金属合金
・プロセス接続継手：1/2インチ VCRメス（相当）
・アナログ出力信号：0 ～ 10 VDC（非線形またはリニア出力）
・駆動電源：±15 VDC
・電気接続コネクタ：15ピン D-subコネクタ
・測定精度：読み値の±0.12% ～ ±0.25%（仕様クラスに依存）
・主な用途：真空チャンバーの圧力管理、半導体製造装置（CVD、エッチング、スパッタ等）におけるプロセスガスの圧力制御
※上記は型番の各コード（レンジ、継手、電源・出力、コネクタ形状など）に基づく同シリーズの共通仕様を抽出した参考データです。複数モデルを展開するシリーズの特性上、内蔵加熱ヒーターの有無や設定温度などの詳細仕様については、実機の仕様ラベル等の記載内容をあわせてご確認ください。