中古 チューニングコントローラー
メーカー名
その他
型式ATCP600
年式表記:
仕様:
仕様:
本体価格(税別、送料別)
50,000円
【AIによる装置概要】
本装置は、半導体製造や各種真空プロセス(プラズマCVD、スパッタリング、ドライエッチング等)において、高周波(RF)電源とプラズマ負荷間のインピーダンス整合を自動的に行うチューニングコントローラーです。プロセス中に発生するプラズマ状態の変化やガス圧の変動に伴うインピーダンスのズレをリアルタイムで検知し、反射波が最小となるようにマッチングネットワーク(整合器)内のバリアブルキャパシタを高速かつ高精度にモーター制御します。
本モデルは最大許容電力600Wクラスの高周波プロセスに対応するよう設計されており、安定したプラズマ放電の維持とプロセス歩留まりの向上に貢献します。運用環境に応じて自動(オート)チューニングモードと手動(マニュアル)チューニングモードの切り替えができ、研究開発における実験用途から量産ラインでの連続稼働まで幅広く対応可能です。視認性に優れたフロントパネルには、現在のチューニング状態やキャパシタのポジションを示すインジケーターが配置されており、直感的な操作と監視が行えます。
【AIによる参考仕様】
・対応高周波(RF)電力:最大 600 W
・基準動作周波数:13.56 MHz
・インピーダンス整合目標値:50 Ω (純抵抗成分)
・チューニング方式:自動(Auto) / 手動(Manual)切替式
・制御対象:モーター駆動式バリアブルキャパシタ(Phase / Magnitude)
・ポジション表示:0〜100% (フロントパネル表示)
・入出力インターフェース:アナログI/O、デジタルI/O
・電源電圧:AC 100V〜240V (単相 50/60Hz)
・冷却方式:自然空冷
※公式ページに掲載されている同一シリーズの他モデル(300Wや1000Wなど)とは許容入力電力や外形寸法が異なります。上記は当該600Wモデル専用の仕様となります。
本装置は、半導体製造や各種真空プロセス(プラズマCVD、スパッタリング、ドライエッチング等)において、高周波(RF)電源とプラズマ負荷間のインピーダンス整合を自動的に行うチューニングコントローラーです。プロセス中に発生するプラズマ状態の変化やガス圧の変動に伴うインピーダンスのズレをリアルタイムで検知し、反射波が最小となるようにマッチングネットワーク(整合器)内のバリアブルキャパシタを高速かつ高精度にモーター制御します。
本モデルは最大許容電力600Wクラスの高周波プロセスに対応するよう設計されており、安定したプラズマ放電の維持とプロセス歩留まりの向上に貢献します。運用環境に応じて自動(オート)チューニングモードと手動(マニュアル)チューニングモードの切り替えができ、研究開発における実験用途から量産ラインでの連続稼働まで幅広く対応可能です。視認性に優れたフロントパネルには、現在のチューニング状態やキャパシタのポジションを示すインジケーターが配置されており、直感的な操作と監視が行えます。
【AIによる参考仕様】
・対応高周波(RF)電力:最大 600 W
・基準動作周波数:13.56 MHz
・インピーダンス整合目標値:50 Ω (純抵抗成分)
・チューニング方式:自動(Auto) / 手動(Manual)切替式
・制御対象:モーター駆動式バリアブルキャパシタ(Phase / Magnitude)
・ポジション表示:0〜100% (フロントパネル表示)
・入出力インターフェース:アナログI/O、デジタルI/O
・電源電圧:AC 100V〜240V (単相 50/60Hz)
・冷却方式:自然空冷
※公式ページに掲載されている同一シリーズの他モデル(300Wや1000Wなど)とは許容入力電力や外形寸法が異なります。上記は当該600Wモデル専用の仕様となります。
