中古 マスフローコントローラー（MFC）
メーカー名
堀場エステック Stec
型式SEC-F440M
年式表記：
仕様:ガス:2%B2H6/N2 流量:1LM
仕様:ガス:2%B2H6/N2 流量:1LM
本体価格(税別、送料別)
30,000円
【AIによる装置概要】
本装置は、半導体製造プロセスなどの精密なガス流量制御に広く使用される、熱式センサーを搭載した高精度デジタルマスフローコントローラーです。優れた応答性と信頼性を誇り、流量設定に対して1秒以下の高速応答を実現します。
接ガス部には耐食性に優れた高品位な金属材料およびメタルシールを採用しており、外部リークレート1 × 10⁻¹¹ Pa・m³/sec（He）以下の優れた気密性を保持しています。本個体は、特殊材料ガスであるジボランの希釈ガス（2% B2H6/N2）における流量制御（フルスケール1 L/min）に最適化された調整が施されています。ベースプラットフォームは最大50 L/min（N2換算）まで対応可能な設計となっており、高いクリーン度を維持しながら、真空プロセスや化学気相成長（CVD）装置におけるプロセスガスの安定供給に寄与します。
【AIによる参考仕様】
* **制御対象ガス**: 2% B2H6 / N2 (ジボラン 2% / 窒素希釈)
* **フルスケール流量**: 1 LM (1 L/min)
* **ベース機最大流量範囲**: 50 L/min (N2換算基準)
* **バルブ動作**: ノーマリークローズ (常時閉)
* **シール仕様**: メタルシール
* **接ガス部主要材質**: SUS316L
* **外部リークレート**: 1 × 10⁻¹¹ Pa・m³/sec (He) 以下
* **応答速度**: 1.0秒以下 (全流量域)
* **動作温度範囲**: 5〜50℃
本装置は、半導体製造プロセスなどの精密なガス流量制御に広く使用される、熱式センサーを搭載した高精度デジタルマスフローコントローラーです。優れた応答性と信頼性を誇り、流量設定に対して1秒以下の高速応答を実現します。
接ガス部には耐食性に優れた高品位な金属材料およびメタルシールを採用しており、外部リークレート1 × 10⁻¹¹ Pa・m³/sec（He）以下の優れた気密性を保持しています。本個体は、特殊材料ガスであるジボランの希釈ガス（2% B2H6/N2）における流量制御（フルスケール1 L/min）に最適化された調整が施されています。ベースプラットフォームは最大50 L/min（N2換算）まで対応可能な設計となっており、高いクリーン度を維持しながら、真空プロセスや化学気相成長（CVD）装置におけるプロセスガスの安定供給に寄与します。
【AIによる参考仕様】
* **制御対象ガス**: 2% B2H6 / N2 (ジボラン 2% / 窒素希釈)
* **フルスケール流量**: 1 LM (1 L/min)
* **ベース機最大流量範囲**: 50 L/min (N2換算基準)
* **バルブ動作**: ノーマリークローズ (常時閉)
* **シール仕様**: メタルシール
* **接ガス部主要材質**: SUS316L
* **外部リークレート**: 1 × 10⁻¹¹ Pa・m³/sec (He) 以下
* **応答速度**: 1.0秒以下 (全流量域)
* **動作温度範囲**: 5〜50℃