中古 クライオポンプ
メーカー名
アルバック
型式CRYO-U8H
年式表記：
仕様:
仕様:
本体価格(税別、送料別)
300,000円
【AIによる装置概要】
極低温面でのガスの凝縮および吸着作用を利用して、クリーンな超高真空を形成する溜め込み式の真空ポンプです。主に半導体製造プロセス、スパッタリング装置、真空蒸着装置、各種高真空排気システムなどで広く採用されています。
本機は8インチ口径クラスのモデルであり、水分（H2O）に対して4,000 L/sという非常に高い排気速度を持つことが特長です。また、窒素（N2）は1,500 L/s、水素（H2）は2,200 L/sの排気能力を備えており、オイルフリーでコンタミネーションのない理想的な真空環境を構築できます。
溜め込み式であるため定期的な再生（昇温および粗引き排気）が必要となりますが、アルゴンで1.33×10^5 Pa・m3という大きな最大排気量を有しており、中規模チャンバーの安定した連続排気に貢献します。稼働時の冷却には、高純度ヘリウムガスを循環させる専用のコンプレッサユニットと組み合わせて運用されます。
【AIによる参考仕様】
接続フランジ規格：VG200 / ICF253
排気速度（水）：4,000 L/s
排気速度（窒素）：1,500 L/s
排気速度（アルゴン）：1,200 L/s
排気速度（水素）：2,200 L/s
最大排気容量（アルゴン）：1.33×10^5 Pa・m3
最大排気容量（水素）：1.33×10^3 Pa・m3
クロスオーバー許容値：20 Pa・m3
到達圧力：10^-8 Pa台
冷却時間（50Hz / 60Hz）：約85分 / 約70分
本体質量：約22 kg
適合コンプレッサユニット：C15R / C30R / C30MR など
極低温面でのガスの凝縮および吸着作用を利用して、クリーンな超高真空を形成する溜め込み式の真空ポンプです。主に半導体製造プロセス、スパッタリング装置、真空蒸着装置、各種高真空排気システムなどで広く採用されています。
本機は8インチ口径クラスのモデルであり、水分（H2O）に対して4,000 L/sという非常に高い排気速度を持つことが特長です。また、窒素（N2）は1,500 L/s、水素（H2）は2,200 L/sの排気能力を備えており、オイルフリーでコンタミネーションのない理想的な真空環境を構築できます。
溜め込み式であるため定期的な再生（昇温および粗引き排気）が必要となりますが、アルゴンで1.33×10^5 Pa・m3という大きな最大排気量を有しており、中規模チャンバーの安定した連続排気に貢献します。稼働時の冷却には、高純度ヘリウムガスを循環させる専用のコンプレッサユニットと組み合わせて運用されます。
【AIによる参考仕様】
接続フランジ規格：VG200 / ICF253
排気速度（水）：4,000 L/s
排気速度（窒素）：1,500 L/s
排気速度（アルゴン）：1,200 L/s
排気速度（水素）：2,200 L/s
最大排気容量（アルゴン）：1.33×10^5 Pa・m3
最大排気容量（水素）：1.33×10^3 Pa・m3
クロスオーバー許容値：20 Pa・m3
到達圧力：10^-8 Pa台
冷却時間（50Hz / 60Hz）：約85分 / 約70分
本体質量：約22 kg
適合コンプレッサユニット：C15R / C30R / C30MR など