中古 クライオポンプ
メーカー名
アルバック Ulvac
型式CRYO-U12HSP
年式表記:
仕様:
仕様:
本体価格(税別、送料別)
400,000円
【AIによる装置概要】
本機は、真空排気システムにおいて油分のない清浄な超高真空環境を構築するために用いられる、スパッタリングプロセス向けに最適化された高性能クライオポンプです。大流量のプロセスガス(特にアルゴン)を使用する成膜プロセスを想定して設計されており、連続的なガス負荷やチャンバー内からの高熱負荷に対しても、安定した冷却・排気性能を維持できる構造となっています。
水(H2O)に対して10,000 L/s、窒素(N2)に対して4,000 L/s、アルゴン(Ar)に対して3,300 L/s、水素(H2)に対して6,000 L/sという高い排気速度を備え、チャンバー内圧力を迅速に目的の真空度まで引き下げることが可能です。また、スパッタリングプロセスでの使用を前提としているため、アルゴンガスの許容連続流量や排気容量が大きく確保されています。これにより、長時間の連続成膜においてもポンプの再生(リジェネレーション)頻度を低減でき、生産設備の稼働率向上とダウンタイムの削減に寄与します。
半導体製造装置、電子部品の各種真空成膜装置(PVD)、フラットパネルディスプレイ(FPD)製造プロセスなど、厳格な真空品質と高いガススループットが要求される産業用真空装置の主排気ユニットとして広く採用されています。なお、本機の稼働には専用のヘリウム圧縮機(コンプレッサー)ユニットおよびフレキシブルホースを用いた接続が必要です。
【AIによる参考仕様】
排気速度(水):10,000 L/s
排気速度(窒素):4,000 L/s
排気速度(アルゴン):3,300 L/s
排気速度(水素):6,000 L/s
到達圧力:10^-8 Pa台
接続主フランジ:JIS VG300(※装置側の仕様によりANSIやISO規格の場合あり)
用途特長:スパッタリングプロセス用(大流量アルゴンガス・高熱負荷対応)
駆動要件:専用ヘリウム圧縮機(コンプレッサー)との接続
本機は、真空排気システムにおいて油分のない清浄な超高真空環境を構築するために用いられる、スパッタリングプロセス向けに最適化された高性能クライオポンプです。大流量のプロセスガス(特にアルゴン)を使用する成膜プロセスを想定して設計されており、連続的なガス負荷やチャンバー内からの高熱負荷に対しても、安定した冷却・排気性能を維持できる構造となっています。
水(H2O)に対して10,000 L/s、窒素(N2)に対して4,000 L/s、アルゴン(Ar)に対して3,300 L/s、水素(H2)に対して6,000 L/sという高い排気速度を備え、チャンバー内圧力を迅速に目的の真空度まで引き下げることが可能です。また、スパッタリングプロセスでの使用を前提としているため、アルゴンガスの許容連続流量や排気容量が大きく確保されています。これにより、長時間の連続成膜においてもポンプの再生(リジェネレーション)頻度を低減でき、生産設備の稼働率向上とダウンタイムの削減に寄与します。
半導体製造装置、電子部品の各種真空成膜装置(PVD)、フラットパネルディスプレイ(FPD)製造プロセスなど、厳格な真空品質と高いガススループットが要求される産業用真空装置の主排気ユニットとして広く採用されています。なお、本機の稼働には専用のヘリウム圧縮機(コンプレッサー)ユニットおよびフレキシブルホースを用いた接続が必要です。
【AIによる参考仕様】
排気速度(水):10,000 L/s
排気速度(窒素):4,000 L/s
排気速度(アルゴン):3,300 L/s
排気速度(水素):6,000 L/s
到達圧力:10^-8 Pa台
接続主フランジ:JIS VG300(※装置側の仕様によりANSIやISO規格の場合あり)
用途特長:スパッタリングプロセス用(大流量アルゴンガス・高熱負荷対応)
駆動要件:専用ヘリウム圧縮機(コンプレッサー)との接続
