中古DC電源・RF電源（スパッタ・プラズマ用）の在庫・価格

DC電源・RF電源(スパッタ・プラズマ用)は、真空チャンバーの中でプラズマを起こし、保つための電力を供給する電源と、その周りの整合・制御機器の分野である。スパッタリング、プラズマCVD、ドライエッチング、アッシング、イオンビームを使う加工や成膜は、どれもこの電源がなければ成り立たない。一般の実験用直流電源と違い、放電という変わりやすい負荷に電力を安定して入れ続けることが求められる。
中心になるのはDC電源とRF電源である。DC電源はマグネトロンスパッタで金属など導電性のターゲットに負の電圧をかける用途が代表で、反応性スパッタではターゲット表面に絶縁物が付いて起こるアーク放電を抑えるため、アークキラー(スパークル)のような機器やパルス化の機能を組み合わせる。RF電源は高周波でプラズマを起こすため、絶縁物のターゲットや電極に膜が付く用途でも放電を続けられ、プラズマCVDやエッチングで広く使われる。周波数は工業用に割り当てられた13.56MHzが標準的である。
RF電源には整合器が欠かせない。プラズマの負荷はインピーダンスが電源側の出力インピーダンスと大きく違い、そのままでは電力が反射して入らないため、マッチングボックスで負荷を合わせ、反射波を小さくして電力を送り込む。整合を自動で追いかける場合は、チューニングコントローラーやマッチングコントローラーが整合器の可変コンデンサーを動かす。RFコントローラーやスパッタ電源用のミニパネルは、電源の出力設定や表示を手元や装置の盤面から行うための機器である。
このほか、電子ビームで材料を加熱して蒸発させるEB蒸着電源、イオン源を動かすイオン電源、2.45GHz帯のマイクロ波でプラズマを起こすマイクロ波電源、定電圧と定電流を切り替えて使えるCVCC可変電源などもこの分野に入る。いずれも、どの放電方式の装置に組み込むかで必要な電源が決まる。
選び分けは、まずプロセスの方式から入る。金属の成膜ならDC電源、絶縁物の成膜やプラズマ処理ならRF電源と整合器、高密度のプラズマや特定の励起が要るならマイクロ波電源、蒸着ならEB蒸着電源という見当になる。そのうえで出力の大きさ、周波数、整合器との組合せ、装置側からの制御の方式、冷却方式と入力電源を、組み込む装置や設置する場所に合わせて絞り込む。中古では、電源と整合器、コントローラーが別々に流通することが多いので、組合せがそろうかを先に確かめると手戻りが少ない。