中古 アライナーフォーカス調整用マスク
メーカー名
キャノン Canon
型式No36-3
年式表記:
仕様:MPA500, MPA600用フォーカス調整用マスク4インチ用
仕様:MPA500, MPA600用フォーカス調整用マスク4インチ用
本体価格(税別、送料別)
950,000円
【AIによる装置概要】
本製品は、等倍ミラープロジェクション方式の投影露光装置(MPA-500およびMPA-600シリーズ)において、投影光学系のフォーカス調整、解像力の評価、および各種収差の測定に使用される専用のテスト用フォトマスクです。対応プロセスサイズは4インチであり、半導体製造の露光工程における装置の初期セットアップや定期メンテナンス、光学コンディションの維持に不可欠な治具として機能します。
ミラープロジェクションマスクアライナーのパフォーマンスを最大限に引き出すためには、露光エリア全体にわたる厳密なピント合わせが要求されます。本製品には、微細なライン・アンド・スペースなどの解像力テストパターンが高精度に描画されています。これをテストウェハ上に露光し、現像後のパターン形状やコントラストを顕微鏡等で観察・評価することで、最適なベストフォーカス位置の特定や、ミラー光学系特有の非点収差、ディストーション(歪曲収差)の微調整を正確に行うことが可能です。
特に、MPAシリーズが主力としていた1.5μm〜2.0μmルールの解像度を安定して得るために、投影波長(主に水銀ランプの紫外域連続スペクトル)に対する光学性能を定量的に把握するための基準器として重要な役割を果たします。
【AIによる参考仕様】
・適用露光装置: MPA-500シリーズ / MPA-600シリーズ(等倍ミラープロジェクションマスクアライナー)
・対応プロセスサイズ: 4インチ(約100mm)ウェハ用
・主な用途: 投影光学系のベストフォーカス位置の算出、焦点深度(DOF)の測定、解像力評価、収差測定
・投影倍率: 1:1(等倍)
・評価対象解像度目安: 1.5μm ~ 2.0μmレベルのパターン評価
・基板材質: ガラス(石英ガラス等)
・遮光膜材質: クロム(Cr)
・描画パターン: フォーカスおよび解像度調整用テストチャート(ライン&スペース等)
・対応露光波長: 紫外域(ブロードバンドUV)
※本情報は標準的な調整用テストマスクの仕様に基づいた参考情報です。中古治具という特性上、ガラス基板の寸法(外形寸法・厚み)、テストパターンの劣化状態、微細なスクラッチの有無については、現品の現状を優先してご確認ください。
本製品は、等倍ミラープロジェクション方式の投影露光装置(MPA-500およびMPA-600シリーズ)において、投影光学系のフォーカス調整、解像力の評価、および各種収差の測定に使用される専用のテスト用フォトマスクです。対応プロセスサイズは4インチであり、半導体製造の露光工程における装置の初期セットアップや定期メンテナンス、光学コンディションの維持に不可欠な治具として機能します。
ミラープロジェクションマスクアライナーのパフォーマンスを最大限に引き出すためには、露光エリア全体にわたる厳密なピント合わせが要求されます。本製品には、微細なライン・アンド・スペースなどの解像力テストパターンが高精度に描画されています。これをテストウェハ上に露光し、現像後のパターン形状やコントラストを顕微鏡等で観察・評価することで、最適なベストフォーカス位置の特定や、ミラー光学系特有の非点収差、ディストーション(歪曲収差)の微調整を正確に行うことが可能です。
特に、MPAシリーズが主力としていた1.5μm〜2.0μmルールの解像度を安定して得るために、投影波長(主に水銀ランプの紫外域連続スペクトル)に対する光学性能を定量的に把握するための基準器として重要な役割を果たします。
【AIによる参考仕様】
・適用露光装置: MPA-500シリーズ / MPA-600シリーズ(等倍ミラープロジェクションマスクアライナー)
・対応プロセスサイズ: 4インチ(約100mm)ウェハ用
・主な用途: 投影光学系のベストフォーカス位置の算出、焦点深度(DOF)の測定、解像力評価、収差測定
・投影倍率: 1:1(等倍)
・評価対象解像度目安: 1.5μm ~ 2.0μmレベルのパターン評価
・基板材質: ガラス(石英ガラス等)
・遮光膜材質: クロム(Cr)
・描画パターン: フォーカスおよび解像度調整用テストチャート(ライン&スペース等)
・対応露光波長: 紫外域(ブロードバンドUV)
※本情報は標準的な調整用テストマスクの仕様に基づいた参考情報です。中古治具という特性上、ガラス基板の寸法(外形寸法・厚み)、テストパターンの劣化状態、微細なスクラッチの有無については、現品の現状を優先してご確認ください。
