中古機 アライナー キャノン　Canon製、型式PLA-501Fのご紹介

【AIによる装置概要】
本装置は、半導体デバイスやMEMS、各種電子部品の研究開発から少量多品種の生産ラインまで、幅広い用途で活用されているプロキシミティおよびコンタクト露光対応のマスクアライナーです。専用のウェーハチャックを交換することで、数mm角の小片チップサイズから最大5インチ（直径125mm）までのシリコンウェーハや各種ガラス基板など、多様な基板寸法に柔軟に対応します。

露光モードは、マスクと基板の間に微小な隙間（ギャップ）を設けて露光を行うプロキシミティ露光をはじめ、基板をマスクに軽く密着させるソフトコンタクト露光、および真空引きにより強力に密着させるハードコンタクト露光の3種類から選択でき、プロセス要件に応じた最適な露光条件の構築が可能です。光源部には250Wまたは500Wの超高圧水銀ランプを採用しており、g線（436nm）、h線（405nm）、i線（365nm）を含む近紫外ブロードバンド光を照射します。

解像力は、ハードコンタクト露光時で約1.0μm、プロキシミティ露光時（ギャップ約20μm設定時）で約2.5μm〜3.0μmの微細パターン形成能力を有しています。マスクと基板の位置合わせ（アライメント）には、スプリットフィールド双眼顕微鏡を用いたマニュアル方式を採用しており、X、Y、およびθ軸の微動ステージをオペレーターが操作することで、約±0.5μm〜1.0μmの高精度な位置合わせを実現します。基本構造がシンプルかつ堅牢でメンテナンス性にも優れており、長期的な安定稼働実績を持つ信頼性の高い露光装置です。

【AIによる参考仕様】
・対応基板サイズ：小片チップ 〜 最大5インチ（125mm）
・対応マスクサイズ：最大6インチ
・露光方式：プロキシミティ露光、ソフトコンタクト露光、ハードコンタクト露光
・光源：250W または 500W 超高圧水銀ランプ
・露光波長：近紫外ブロードバンド（365nm〜436nm / i線、h線、g線）
・解像力（参考値）：ハードコンタクト時 約1.0μm / プロキシミティ時 約2.5〜3.0μm
・アライメント方式：マニュアル（手動）アライメント
・アライメント精度（参考値）：±0.5μm 〜 ±1.0μm
・観察光学系：スプリットフィールド双眼顕微鏡（対物レンズ切り替え式）
・位置合わせ機構：X・Y軸微動、θ軸回転微動ステージ搭載
・必要ユーティリティ：真空、圧縮空気（ドライエア）、窒素（N2）、局所排気機構