中古機 アライナー キャノン　Canon製、型式PLA-501Sのご紹介

【AIによる装置概要】
本装置は、半導体ウェーハや各種基板に対してフォトマスクのパターンを転写するプロキシミティおよびコンタクト方式のマスクアライナーです。長年にわたり研究開発部門や少量多品種の生産ラインを中心に導入され、安定した稼働実績を持つ汎用性の高いモデルとして知られています。

露光方式は、マスクと基板を直接密着させるハードコンタクトやソフトコンタクトモードに加え、マスクと基板の間に微小な隙間（ギャップ）を設けて露光を行うプロキシミティモードに対応しています。これにより、基板表面の損傷やフォトマスクの劣化を防ぎながら、デバイスの要求仕様に応じた柔軟な露光プロセスを構築できます。

基板サイズは最大5インチ（125mm）に対応しており、ウェーハチャックやマスクホルダーを交換することで、2〜4インチの小口径ウェーハ、化合物半導体、さらには不定形の小片基板など、多様なサイズの処理が可能です。光源には超高圧水銀ランプを使用し、g線（436nm）、h線（405nm）、i線（365nm）の紫外線波長を利用したパターン転写を行います。位置合わせ（アライメント）はスプリットフィールド顕微鏡を使用したマニュアル方式を採用しており、X、Y、θ軸の微動ステージを操作して直感的かつ精密なアライメントが可能です。MEMS、LED、センサーなどの特殊な基板プロセスにおいても高い有用性を発揮します。

【AIによる参考仕様】
・露光方式: プロキシミティ / ソフトコンタクト / ハードコンタクト
・対応基板サイズ: 最大5インチ（125mm） ※チャック交換により小口径・不定形基板に対応
・対応マスクサイズ: 最大5インチ / 6インチ角
・光源: 超高圧水銀ランプ（250W または 500W）
・露光波長: ブロードバンド紫外線（i線 365nm, h線 405nm, g線 436nm）
・アライメント方式: マニュアルアライメント
・観察顕微鏡: スプリットフィールド双眼顕微鏡
・アライメント精度: ±0.5〜1.0μm（コンタクト時・作業条件に依存）
・解像力: 約1.0〜2.0μm（コンタクト露光時・使用レジストによる）
・プロキシミティギャップ設定: 任意調整可能（一般的に10〜50μm）
・ステージ移動量: X・Y軸方向 微動調整、θ軸 回転調整
・ユーティリティ: 真空、圧縮空気、冷却窒素（または冷却水）、排気ダクト接続必須