中古 アライナーフォーカス調整用マスク
メーカー名
キャノン Canon
型式No13
年式表記:
仕様:MPA500, MPA600用フォーカス調整用マスク3インチ用
仕様:MPA500, MPA600用フォーカス調整用マスク3インチ用
本体価格(税別、送料別)
800,000円
【AIによる装置概要】
本品は、等倍反射投影型露光装置(ミラープロジェクションマスクアライナー)の光学系メンテナンスおよび精度維持に使用される専用のテストマスクです。対象となる露光装置は投影倍率1:1の反射光学系を搭載しており、環境温度の変化や装置の経年稼働に伴うピントずれ、像面湾曲、非点収差などの微小な光学変動を補正するため、定期的なキャリブレーションが不可欠となります。
本マスクの基板上には、解像力やフォーカス余裕度を評価するための微細なライン・アンド・スペース(L/S)パターンや、各種測定用ターゲットマークが高精度なクロム膜で描画されています。3インチウェーハの露光領域全体をカバーするパターン配置となっており、実際にレジストへテスト露光(焼き付け)を行うか、顕微鏡を用いて空間像を観察することで、装置全体の結像性能およびフォーカス追従性を定量的に評価することが可能です。半導体素子やSAWデバイス等の製造工程において、1.5μm〜2.0μm帯の要求解像度と露光プロセスの安定性を確保するための保守治具として機能します。
【AIによる参考仕様】
・適用装置方式: 等倍反射投影型露光方式
・対応ウェーハサイズ: 3インチ(約76.2mm)径
・用途: 投影光学系の最適フォーカス位置割り出し、解像度・収差の光学評価
・基板材質: 合成石英ガラス(低熱膨張・高UV透過率)
・遮光膜材質: クロム(Cr)系ハードクロム膜
・主なパターン構成: 解像力評価用ライン・アンド・スペース(L/S)、空間像測定用ターゲット、焦点深度(DOF)確認用マーク
・評価基準解像度: 1.5μm ~ 3.0μm付近の等倍投影解像力
・想定マスク外形寸法: 4インチ角(約101.6mm × 101.6mm)※3インチ露光エリア対応サイズ
・想定基板厚さ: 0.09インチ(約2.28mm)または 0.06インチ(約1.52mm)
※上記は当該世代の等倍反射投影露光装置向け調整用マスクの一般的な規格に基づいた参考仕様です。実際の製品仕様(寸法・パターンピッチ等)はリビジョンにより微細な差異が含まれる場合があります。
本品は、等倍反射投影型露光装置(ミラープロジェクションマスクアライナー)の光学系メンテナンスおよび精度維持に使用される専用のテストマスクです。対象となる露光装置は投影倍率1:1の反射光学系を搭載しており、環境温度の変化や装置の経年稼働に伴うピントずれ、像面湾曲、非点収差などの微小な光学変動を補正するため、定期的なキャリブレーションが不可欠となります。
本マスクの基板上には、解像力やフォーカス余裕度を評価するための微細なライン・アンド・スペース(L/S)パターンや、各種測定用ターゲットマークが高精度なクロム膜で描画されています。3インチウェーハの露光領域全体をカバーするパターン配置となっており、実際にレジストへテスト露光(焼き付け)を行うか、顕微鏡を用いて空間像を観察することで、装置全体の結像性能およびフォーカス追従性を定量的に評価することが可能です。半導体素子やSAWデバイス等の製造工程において、1.5μm〜2.0μm帯の要求解像度と露光プロセスの安定性を確保するための保守治具として機能します。
【AIによる参考仕様】
・適用装置方式: 等倍反射投影型露光方式
・対応ウェーハサイズ: 3インチ(約76.2mm)径
・用途: 投影光学系の最適フォーカス位置割り出し、解像度・収差の光学評価
・基板材質: 合成石英ガラス(低熱膨張・高UV透過率)
・遮光膜材質: クロム(Cr)系ハードクロム膜
・主なパターン構成: 解像力評価用ライン・アンド・スペース(L/S)、空間像測定用ターゲット、焦点深度(DOF)確認用マーク
・評価基準解像度: 1.5μm ~ 3.0μm付近の等倍投影解像力
・想定マスク外形寸法: 4インチ角(約101.6mm × 101.6mm)※3インチ露光エリア対応サイズ
・想定基板厚さ: 0.09インチ(約2.28mm)または 0.06インチ(約1.52mm)
※上記は当該世代の等倍反射投影露光装置向け調整用マスクの一般的な規格に基づいた参考仕様です。実際の製品仕様(寸法・パターンピッチ等)はリビジョンにより微細な差異が含まれる場合があります。
