中古 アライナーフォーカス調整用マスク
メーカー名
キャノン Canon
型式No36-3
年式表記:
仕様:MPA500, MPA600用フォーカス調整用マスク5インチ用
仕様:MPA500, MPA600用フォーカス調整用マスク5インチ用
本体価格(税別、送料別)
1,100,000円
【AIによる装置概要】
本製品は、半導体製造工程で用いられる等倍反射投影型アライナーにおいて、光学系の結像性能やフォーカス(焦点)位置を最適化するために使用されるテスト用フォトマスクです。対象となる露光装置は、開口数(NA)0.14前後のミラープロジェクション方式を採用しており、本製品はその中でも5インチウェハプロセスに対応したサイズ設計となっています。
マスクの表面には、対象露光装置の限界解像力である1.5μm〜2.0μm付近を正確に評価するための微細なテストパターン(ライン・アンド・スペース等)が高精度に描画されています。定期的なメンテナンスや光学系のキャリブレーション時に本製品をセットしてテスト露光を行うことで、露光エリア全面における焦点深度(DOF)や解像度の均一性、収差の影響を定量的に測定することが可能です。リソグラフィ工程における露光精度の維持・管理に不可欠な、純粋な保守・較正用の精密治具として機能します。
【AIによる参考仕様】
・適用露光方式: 等倍反射投影方式(ミラープロジェクション)
・対応ウェハサイズ: 5インチ(φ約127mm)
・マスク外形寸法: 5インチ角(約127mm × 127mm)
・基板材質: 石英ガラス
・主な用途: 投影光学系のフォーカス調整、解像力評価、焦点深度の測定、結像性能の均一性確認
・パターン構成: 解像度評価用テストパターン(ライン・アンド・スペース等)
・対象解像力: 1.5μm 〜 2.0μmプロセス相当(対象露光装置の光学性能に依存)
本製品は、半導体製造工程で用いられる等倍反射投影型アライナーにおいて、光学系の結像性能やフォーカス(焦点)位置を最適化するために使用されるテスト用フォトマスクです。対象となる露光装置は、開口数(NA)0.14前後のミラープロジェクション方式を採用しており、本製品はその中でも5インチウェハプロセスに対応したサイズ設計となっています。
マスクの表面には、対象露光装置の限界解像力である1.5μm〜2.0μm付近を正確に評価するための微細なテストパターン(ライン・アンド・スペース等)が高精度に描画されています。定期的なメンテナンスや光学系のキャリブレーション時に本製品をセットしてテスト露光を行うことで、露光エリア全面における焦点深度(DOF)や解像度の均一性、収差の影響を定量的に測定することが可能です。リソグラフィ工程における露光精度の維持・管理に不可欠な、純粋な保守・較正用の精密治具として機能します。
【AIによる参考仕様】
・適用露光方式: 等倍反射投影方式(ミラープロジェクション)
・対応ウェハサイズ: 5インチ(φ約127mm)
・マスク外形寸法: 5インチ角(約127mm × 127mm)
・基板材質: 石英ガラス
・主な用途: 投影光学系のフォーカス調整、解像力評価、焦点深度の測定、結像性能の均一性確認
・パターン構成: 解像度評価用テストパターン(ライン・アンド・スペース等)
・対象解像力: 1.5μm 〜 2.0μmプロセス相当(対象露光装置の光学性能に依存)
