中古 DC電源
メーカー名
アドバンスドエナジー AE
型式MDX(2224-013-E)
年式表記:
仕様:
仕様:
本体価格(税別、送料別)
200,000円
【AIによる装置概要】
本装置は、真空プラズマプロセスおよびDCマグネトロンスパッタリング用途向けに設計された、最大出力1.5kWの直流(DC)電源です。主に半導体製造や各種表面コーティングなどの薄膜成膜プロセスにおいて、プラズマを安定して発生・維持するための駆動源として利用されます。
出力制御は、プロセスの要件に応じて「定電力」「定電圧」「定電流」の3つのモードから選択でき、プロセス中の負荷変動に対して精密なフィードバック制御を行います。また、真空プロセスにおいて品質低下の原因となる異常放電(アーク)をマイクロ秒単位で検知・抑制するアーク処理機能を内蔵しており、ターゲット材料の損傷や基板へのダメージを防止します。
冷却機構には内蔵ファンによる強制空冷式を採用しており、冷却水配管などの付帯設備を必要としないため、装置への組み込みやレイアウト変更が容易です。背面の外部インターフェースを介したアナログ信号によるリモート制御に対応しており、メインのシステムコントローラと連動した自動運用が可能です。内部のタップ設定を変更することで、使用するターゲット特性に合わせた最適な電圧・電流の出力上限(最大1000V~1500Vなど)に調整できる柔軟性を備えています。
【AIによる参考仕様】
最大出力電力:1500 W (1.5 kW)
出力電圧範囲:0 ~ 最大1500 V(内部タップ設定により上限変動)
出力電流範囲:0 ~ 最大3.0 A(内部タップ設定により上限変動)
制御モード:定電力、定電圧、定電流
アーク抑制機能:搭載(異常放電の高速検知および遮断・復帰)
入力電圧:単相 AC 208 V(工場設定・仕様により AC 190~230 V)
入力周波数:50 / 60 Hz
冷却方式:強制空冷(内蔵ファン)
外部制御インターフェース:アナログI/O(D-subコネクタ)によるリモートコントロール
設置形状:EIA 19インチラックマウント対応(※複数台連結用の専用アダプタ使用時)
本装置は、真空プラズマプロセスおよびDCマグネトロンスパッタリング用途向けに設計された、最大出力1.5kWの直流(DC)電源です。主に半導体製造や各種表面コーティングなどの薄膜成膜プロセスにおいて、プラズマを安定して発生・維持するための駆動源として利用されます。
出力制御は、プロセスの要件に応じて「定電力」「定電圧」「定電流」の3つのモードから選択でき、プロセス中の負荷変動に対して精密なフィードバック制御を行います。また、真空プロセスにおいて品質低下の原因となる異常放電(アーク)をマイクロ秒単位で検知・抑制するアーク処理機能を内蔵しており、ターゲット材料の損傷や基板へのダメージを防止します。
冷却機構には内蔵ファンによる強制空冷式を採用しており、冷却水配管などの付帯設備を必要としないため、装置への組み込みやレイアウト変更が容易です。背面の外部インターフェースを介したアナログ信号によるリモート制御に対応しており、メインのシステムコントローラと連動した自動運用が可能です。内部のタップ設定を変更することで、使用するターゲット特性に合わせた最適な電圧・電流の出力上限(最大1000V~1500Vなど)に調整できる柔軟性を備えています。
【AIによる参考仕様】
最大出力電力:1500 W (1.5 kW)
出力電圧範囲:0 ~ 最大1500 V(内部タップ設定により上限変動)
出力電流範囲:0 ~ 最大3.0 A(内部タップ設定により上限変動)
制御モード:定電力、定電圧、定電流
アーク抑制機能:搭載(異常放電の高速検知および遮断・復帰)
入力電圧:単相 AC 208 V(工場設定・仕様により AC 190~230 V)
入力周波数:50 / 60 Hz
冷却方式:強制空冷(内蔵ファン)
外部制御インターフェース:アナログI/O(D-subコネクタ)によるリモートコントロール
設置形状:EIA 19インチラックマウント対応(※複数台連結用の専用アダプタ使用時)
