中古 DC電源
メーカー名
アネルバ ANELVA
型式PDC-028
年式表記:
仕様:
仕様:
本体価格(税別、送料別)
150,000円
【AIによる装置概要】
本装置は、真空成膜プロセス、特にマグネトロンスパッタリング装置のカソードに対して安定した直流(DC)電力を供給するために設計された専用のDC電源です。主に金属ターゲットを用いたスパッタリングにおいて、プラズマの発生と維持を精密に制御する役割を担います。
成膜プロセス中に発生しやすい異常放電(マイクロアーク)を高速で検知し、瞬時に出力を遮断・再印加するアーク抑制機能を搭載している点が特徴です。この機能により、ターゲット表面の損傷や基板へのパーティクル付着を最小限に抑え、長時間の連続運転時でも安定した放電状態を維持して成膜品質の均一化に寄与します。
出力制御方式としては、定電力制御(CP)、定電圧制御(CV)、および定電流制御(CC)の3つのモードに対応しており、プロセス条件やターゲット材質のインピーダンス特性に応じた柔軟なパラメータ設定が可能です。半導体、電子部品、光学デバイスなどの量産プロセスから、研究開発用途の真空成膜装置まで、幅広いスパッタリングシステムに組み込まれて稼働する基幹コンポーネントです。
【AIによる参考仕様】
・用途:マグネトロンスパッタリング装置用 直流(DC)電源
・最大出力電力:2.8kW
・出力電圧範囲:0 ~ -1000V DC
・出力制御モード:定電力制御(CP) / 定電圧制御(CV) / 定電流制御(CC)
・アーク処理:高速アーク検知、遮断および自動復帰機能
・保護回路機能:過電流保護(OCP)、過電圧保護(OVP)、過温度保護(OTP)、外部インターロック
・入力電源:三相 AC200V帯 50/60Hz
・冷却方式:強制空冷
・外部インターフェース:アナログI/Oによる外部制御およびモニタリング対応
(※中古機器のため、オプションの有無や製造時期によって入出力端子の仕様や設定範囲が一部異なる場合があります。導入時の適合確認を推奨します。)
本装置は、真空成膜プロセス、特にマグネトロンスパッタリング装置のカソードに対して安定した直流(DC)電力を供給するために設計された専用のDC電源です。主に金属ターゲットを用いたスパッタリングにおいて、プラズマの発生と維持を精密に制御する役割を担います。
成膜プロセス中に発生しやすい異常放電(マイクロアーク)を高速で検知し、瞬時に出力を遮断・再印加するアーク抑制機能を搭載している点が特徴です。この機能により、ターゲット表面の損傷や基板へのパーティクル付着を最小限に抑え、長時間の連続運転時でも安定した放電状態を維持して成膜品質の均一化に寄与します。
出力制御方式としては、定電力制御(CP)、定電圧制御(CV)、および定電流制御(CC)の3つのモードに対応しており、プロセス条件やターゲット材質のインピーダンス特性に応じた柔軟なパラメータ設定が可能です。半導体、電子部品、光学デバイスなどの量産プロセスから、研究開発用途の真空成膜装置まで、幅広いスパッタリングシステムに組み込まれて稼働する基幹コンポーネントです。
【AIによる参考仕様】
・用途:マグネトロンスパッタリング装置用 直流(DC)電源
・最大出力電力:2.8kW
・出力電圧範囲:0 ~ -1000V DC
・出力制御モード:定電力制御(CP) / 定電圧制御(CV) / 定電流制御(CC)
・アーク処理:高速アーク検知、遮断および自動復帰機能
・保護回路機能:過電流保護(OCP)、過電圧保護(OVP)、過温度保護(OTP)、外部インターロック
・入力電源:三相 AC200V帯 50/60Hz
・冷却方式:強制空冷
・外部インターフェース:アナログI/Oによる外部制御およびモニタリング対応
(※中古機器のため、オプションの有無や製造時期によって入出力端子の仕様や設定範囲が一部異なる場合があります。導入時の適合確認を推奨します。)
