中古 DC電源
メーカー名
アネルバ ANELVA
型式PDC-028
年式表記:
仕様:
仕様:
本体価格(税別、送料別)
150,000円
【AIによる装置概要】
本装置は、真空成膜プロセス、特にスパッタリング装置に組み込んで使用される直流(DC)電源ユニットです。金属ターゲットを用いた導電性薄膜の形成プロセスにおいて、安定したプラズマ放電を維持するための電力供給を行います。定電力、定電圧、定電流の3つの制御モードを備えており、成膜条件やターゲットの消耗状態に合わせた緻密なプロセス制御が可能です。
さらに、スパッタリング工程において膜品質低下やターゲット損傷の原因となる異常放電(アーキング)を瞬時に検知し、出力を遮断・高速復帰させるアークハンドリング機能を搭載しています。これにより、パーティクルの発生を最小限に抑え、歩留まりの高い成膜を安定して行うことができます。半導体素子、電子部品、光学薄膜などの研究開発用途から小〜中規模の生産ラインまで、幅広い真空装置システムへの組み込みに適した実用性の高い電源ユニットです。
【AIによる参考仕様】
・装置用途:スパッタリング用直流(DC)電源
・出力制御モード:定電力、定電圧、定電流
・最大出力電力:2.0 kW
・最大出力電圧:DC 1000 V
・最大出力電流:DC 2.0 A(プロセス負荷に応じた変動あり)
・異常放電対策:アーク検知・抑制回路搭載
・入力電源:三相 AC 200V ±10%(50/60Hz)
・冷却方式:強制空冷
・外部通信・制御:アナログI/Oおよび接点信号によるリモート制御対応
・安全機能:過電流保護、過電圧保護、過熱保護、インターロック機能
※上記は同シリーズ標準モデルの代表的な数値を基にしたAIによる参考仕様です。シリーズ内でのマイナーチェンジやオプション構成により実際の数値(出力レンジなど)が異なる場合があるため、正確な仕様は実機の銘板および各種コネクタポートにてご確認ください。
本装置は、真空成膜プロセス、特にスパッタリング装置に組み込んで使用される直流(DC)電源ユニットです。金属ターゲットを用いた導電性薄膜の形成プロセスにおいて、安定したプラズマ放電を維持するための電力供給を行います。定電力、定電圧、定電流の3つの制御モードを備えており、成膜条件やターゲットの消耗状態に合わせた緻密なプロセス制御が可能です。
さらに、スパッタリング工程において膜品質低下やターゲット損傷の原因となる異常放電(アーキング)を瞬時に検知し、出力を遮断・高速復帰させるアークハンドリング機能を搭載しています。これにより、パーティクルの発生を最小限に抑え、歩留まりの高い成膜を安定して行うことができます。半導体素子、電子部品、光学薄膜などの研究開発用途から小〜中規模の生産ラインまで、幅広い真空装置システムへの組み込みに適した実用性の高い電源ユニットです。
【AIによる参考仕様】
・装置用途:スパッタリング用直流(DC)電源
・出力制御モード:定電力、定電圧、定電流
・最大出力電力:2.0 kW
・最大出力電圧:DC 1000 V
・最大出力電流:DC 2.0 A(プロセス負荷に応じた変動あり)
・異常放電対策:アーク検知・抑制回路搭載
・入力電源:三相 AC 200V ±10%(50/60Hz)
・冷却方式:強制空冷
・外部通信・制御:アナログI/Oおよび接点信号によるリモート制御対応
・安全機能:過電流保護、過電圧保護、過熱保護、インターロック機能
※上記は同シリーズ標準モデルの代表的な数値を基にしたAIによる参考仕様です。シリーズ内でのマイナーチェンジやオプション構成により実際の数値(出力レンジなど)が異なる場合があるため、正確な仕様は実機の銘板および各種コネクタポートにてご確認ください。
