中古 RF電源
メーカー名
アネルバ ANELVA
型式PRF-125C
年式表記:
仕様:
仕様:
本体価格(税別、送料別)
400,000円
【AIによる装置概要】
本装置は、真空チャンバー内で安定したプラズマを発生させるために用いられる、発振周波数13.56MHzの高周波(RF)電源です。主に半導体や電子部品の製造プロセスにおけるスパッタリング装置、プラズマCVD装置、ドライエッチング装置、アッシング装置といった各種真空成膜・表面処理システムに組み込まれて使用されます。
最大出力は1.25kW(1250W)の性能を備えており、各種プラズマプロセスにおいて必要とされる安定した電力供給を行います。高周波出力の安定性は、プロセスの再現性や成膜レート・エッチングレートの均一性に直結するため、精密な出力コントロールが可能な設計となっています。
出力端子におけるインピーダンスは業界標準の50Ωに設定されています。実際の運用においては、オートマッチングボックス(自動整合器)や手動整合器と組み合わせて接続することで、負荷側(プラズマ側)とのインピーダンス整合を効率的に行い、反射波を最小限に抑えながら進行波の電力を真空チャンバー内の電極へと供給します。
研究開発用途における実験・評価機から、小・中規模の生産ラインにおける真空装置まで幅広いシステムに対応できる汎用性の高いモデルであり、既存装置の保守・リプレイスメント用電源ユニットとしても活用されています。
【AIによる参考仕様】
・発振周波数:13.56 MHz(水晶発振制御)
・最大定格出力:1.25 kW (1250 W)
・出力インピーダンス:50 Ω(不平衡)
・出力制御方式:進行波(Pf)および反射波(Pr)モニタリングに基づくフィードバック制御
・インターフェース:外部アナログ/デジタル信号によるリモートコントロール対応
・保護・インターロック機能:過大反射波保護、過電流・過電圧保護、冷却異常温度上昇保護
・主要用途:スパッタリング、プラズマCVD、ドライエッチングなどの真空装置におけるプラズマ励起・維持
本装置は、真空チャンバー内で安定したプラズマを発生させるために用いられる、発振周波数13.56MHzの高周波(RF)電源です。主に半導体や電子部品の製造プロセスにおけるスパッタリング装置、プラズマCVD装置、ドライエッチング装置、アッシング装置といった各種真空成膜・表面処理システムに組み込まれて使用されます。
最大出力は1.25kW(1250W)の性能を備えており、各種プラズマプロセスにおいて必要とされる安定した電力供給を行います。高周波出力の安定性は、プロセスの再現性や成膜レート・エッチングレートの均一性に直結するため、精密な出力コントロールが可能な設計となっています。
出力端子におけるインピーダンスは業界標準の50Ωに設定されています。実際の運用においては、オートマッチングボックス(自動整合器)や手動整合器と組み合わせて接続することで、負荷側(プラズマ側)とのインピーダンス整合を効率的に行い、反射波を最小限に抑えながら進行波の電力を真空チャンバー内の電極へと供給します。
研究開発用途における実験・評価機から、小・中規模の生産ラインにおける真空装置まで幅広いシステムに対応できる汎用性の高いモデルであり、既存装置の保守・リプレイスメント用電源ユニットとしても活用されています。
【AIによる参考仕様】
・発振周波数:13.56 MHz(水晶発振制御)
・最大定格出力:1.25 kW (1250 W)
・出力インピーダンス:50 Ω(不平衡)
・出力制御方式:進行波(Pf)および反射波(Pr)モニタリングに基づくフィードバック制御
・インターフェース:外部アナログ/デジタル信号によるリモートコントロール対応
・保護・インターロック機能:過大反射波保護、過電流・過電圧保護、冷却異常温度上昇保護
・主要用途:スパッタリング、プラズマCVD、ドライエッチングなどの真空装置におけるプラズマ励起・維持
