中古 RF電源
メーカー名
アネルバ ANELVA
型式PRF-125C
年式表記:
仕様:
仕様:
本体価格(税別、送料別)
400,000円
【AIによる装置概要】
本機は、真空プロセスにおいて安定したプラズマを発生させるために使用される高周波(RF)電源です。主に半導体デバイスや電子部品の製造工程であるスパッタリング、プラズマCVD、ドライエッチング、アッシング装置などのプラズマ源として広く活用されています。
国際的に産業・科学・医療用として割り当てられているISMバンドの13.56MHzの周波数を採用しており、インピーダンス50Ωの伝送系を通じてマッチングボックス(自動整合器)へ電力を供給します。同一シリーズ内で複数の出力モデルが展開されている中で、本機は最大出力1.25kW(1250W)を発生させる中出力帯の仕様となっており、研究開発向けの中・小型チャンバーから量産用プロセスまで幅広い真空装置への組み込みに対応可能です。
高周波の進行波電力(Pf)を連続的かつ高精度に制御しつつ、負荷側から戻る反射波電力(Pr)を監視・制御する機能を備えています。これにより、プラズマの着火から放電の安定維持までのプロセス再現性を高めています。また、過大な反射波による内部回路へのダメージを防ぐインターロック・保護回路を搭載しており、プロセスの安全性に寄与します。フロントパネルには電力監視用のインジケーターが配置されており、直感的な出力状況の把握と外部I/Oによる容易な制御インターフェースを提供します。
【AIによる参考仕様】
・発振周波数: 13.56 MHz
・最大出力電力: 1.25 kW (1250 W)
・出力インピーダンス: 50 Ω
・出力制御方式: 進行波(Pf)電力一定制御
・監視項目: 進行波電力(Pf)、反射波電力(Pr)
・接続・伝送系: 同軸コネクタ出力
・主な適用プロセス: スパッタリング、プラズマCVD、ドライエッチング、アッシング等
・主な保護機能: 反射波電力過大保護、過熱保護、過電流保護機能搭載
本機は、真空プロセスにおいて安定したプラズマを発生させるために使用される高周波(RF)電源です。主に半導体デバイスや電子部品の製造工程であるスパッタリング、プラズマCVD、ドライエッチング、アッシング装置などのプラズマ源として広く活用されています。
国際的に産業・科学・医療用として割り当てられているISMバンドの13.56MHzの周波数を採用しており、インピーダンス50Ωの伝送系を通じてマッチングボックス(自動整合器)へ電力を供給します。同一シリーズ内で複数の出力モデルが展開されている中で、本機は最大出力1.25kW(1250W)を発生させる中出力帯の仕様となっており、研究開発向けの中・小型チャンバーから量産用プロセスまで幅広い真空装置への組み込みに対応可能です。
高周波の進行波電力(Pf)を連続的かつ高精度に制御しつつ、負荷側から戻る反射波電力(Pr)を監視・制御する機能を備えています。これにより、プラズマの着火から放電の安定維持までのプロセス再現性を高めています。また、過大な反射波による内部回路へのダメージを防ぐインターロック・保護回路を搭載しており、プロセスの安全性に寄与します。フロントパネルには電力監視用のインジケーターが配置されており、直感的な出力状況の把握と外部I/Oによる容易な制御インターフェースを提供します。
【AIによる参考仕様】
・発振周波数: 13.56 MHz
・最大出力電力: 1.25 kW (1250 W)
・出力インピーダンス: 50 Ω
・出力制御方式: 進行波(Pf)電力一定制御
・監視項目: 進行波電力(Pf)、反射波電力(Pr)
・接続・伝送系: 同軸コネクタ出力
・主な適用プロセス: スパッタリング、プラズマCVD、ドライエッチング、アッシング等
・主な保護機能: 反射波電力過大保護、過熱保護、過電流保護機能搭載
