中古機 RF電源 アネルバ　ANELVA製、型式PRF-125Cのご紹介

【AIによる装置概要】
本装置は、真空成膜プロセスやプラズマ表面処理において不可欠な高周波（RF）電力を供給するための電源ユニットです。主にスパッタリング、プラズマCVD、ドライエッチングといった薄膜形成および微細加工プロセスにおいて、真空チャンバー内に安定したプラズマを発生・維持する役割を担います。

発振周波数は、半導体および真空プロセス向けの高周波電源として国際的な標準規格となっている13.56MHzを採用しています。出力インピーダンスは50Ωに設計されており、専用のマッチングユニット（自動整合器）と同軸ケーブルを介して接続することで、負荷側への高効率かつロスを抑えた電力伝送を実現します。本モデルは最大定格出力125Wの仕様であり、主に小型チャンバーを用いた研究開発用途や、低電力での精密なプラズマ制御が求められる小規模な成膜実験などに適しています。

操作・監視面では、進行波電力（Forward Power）および反射波電力（Reflected Power）の数値をリアルタイムで確認できる出力モニタリング機能を備えており、プラズマの着火状態やインピーダンスマッチングの状況を視覚的に把握することが可能です。また、外部インターフェースを通じたリモート制御や、反射波過大時および温度上昇時におけるインターロック（保護）機構が搭載されており、他の真空装置群と連動した安全で確実なシステム運用をサポートします。

【AIによる参考仕様】
・発振周波数: 13.56 MHz
・周波数許容偏差: ±0.005% 以内
・最大定格出力: 125 W
・出力インピーダンス: 50 Ω
・出力安定度: ±1% 以内（定格出力時）
・高周波出力コネクタ形状: N型同軸レセプタクル
・出力制御モード: 進行波電力一定制御
・監視機能: 進行波電力および反射波電力のモニタリング
・運転モード: ローカル（フロントパネル操作）およびリモート（外部アナログ・接点信号制御）
・保護機能/インターロック: 反射電力過大保護、内部温度異常検知
・冷却方式: 強制空冷
・主な適用装置: 研究開発向け小型スパッタリング装置、プラズマCVD装置、アッシング・エッチング装置など