中古機 RF電源 アネルバ　ANELVA製、型式PRF-125Cのご紹介

【AIによる装置概要】
本機は、真空チャンバー内でのプラズマ生成および維持に用いられる高周波（RF）電源です。主に半導体製造や電子部品製造におけるスパッタリング装置、プラズマCVD装置、ドライエッチング装置などの真空成膜・微細加工システムに組み込まれ、安定した電力を供給する役割を担います。

発振周波数には、工業・科学・医療分野で標準的に利用されるISMバンドの13.56MHzが採用されています。成膜やエッチングのプロセス中、チャンバー内のプラズマ状態の変化に伴って負荷インピーダンスが変動しますが、外部のオートマッチングボックス（自動整合器）と連携させることで、反射電力を最小限に抑え、設定した進行波電力を効率的かつ連続的に供給することが可能です。

内部回路には高精度な出力制御フィードバック機構が組み込まれており、長時間の連続運転時でも出力の揺らぎが少なく、均一なプロセス結果をサポートします。また、異常放電、過電圧、過大反射電力、内部温度の異常上昇などを瞬時に検知する各種保護回路やインターロック機能を搭載しており、システム本体および周辺機器へのダメージを未然に防ぐ堅牢な安全設計が施されています。

【AIによる参考仕様】
・出力周波数：13.56 MHz（水晶発振制御による高安定出力）
・最大出力電力：1.25 kW（1250 W）
・出力インピーダンス：50 Ω
・出力制御方式：進行波電力一定制御（フォワードコントロール）
・反射電力耐性：定格出力に対して一定割合以上の反射波検知時に保護回路作動
・出力コネクタ形状：同軸コネクタ（N型または該当する高周波用規格）
・主な搭載保護機能：過電流保護、過電圧保護、過大反射電力保護、異常過熱保護
・制御・インターフェース：外部コントロール用アナログI/O、インターロック信号端子
・適用用途：高周波スパッタリング、プラズマCVD、アッシング、ドライエッチング等のプラズマ励起用

※上記は同シリーズの基本仕様に基づく参考値です。導入時期や搭載されていた装置のカスタマイズ状況により、冷却方式（水冷・空冷）や背面インターフェースのピンアサインなどが異なる場合があります。