中古 RF電源
メーカー名
アネルバ ANELVA
型式PRF-125C
年式表記:
仕様:
仕様:
本体価格(税別、送料別)
400,000円
【AIによる装置概要】
本機は、真空成膜装置やプラズマ応用プロセス向けに設計された高周波(RF)電源です。主に研究開発用途や小型のスパッタリング装置、プラズマCVD装置、反応性イオンエッチング(RIE)装置などにおいて、プラズマを安定して発生・維持するための電力供給源として使用されます。
発振周波数は、プラズマプロセスにおいて工業用として国際的に割り当てられているISM帯の標準周波数である13.56MHzを採用しており、高いプラズマ生成効率とプロセスの再現性を提供します。最大出力は125Wとなっており、小径ターゲットを用いた実験室レベルの薄膜形成や、基板への熱ダメージ・プラズマダメージを最小限に抑えたい低出力での精密な処理に最適です。
出力インピーダンスは業界標準の50Ωに設定されており、専用のマッチングネットワーク(整合器)と組み合わせることで、プラズマ着火時やプロセス中の負荷変動に対しても、反射波を抑えた高効率で安定した電力供給が可能です。また、低出力モデルであるため冷却には空冷方式を採用しており、チラーなどの外部冷却水循環設備を必要とせず、研究室などの限られたスペースや設備環境でも容易に導入・運用できる設計となっています。
【AIによる参考仕様】
・発振周波数:13.56 MHz(ISM帯)
・最大出力:125 W
・出力インピーダンス:50 Ω
・発振方式:水晶発振方式
・冷却方式:空冷式
・適合プロセス:スパッタリング、プラズマCVD、ドライエッチング、プラズマアッシング等
・主な用途:研究開発向け小型真空装置、低出力プラズマ実験、表面改質処理
本機は、真空成膜装置やプラズマ応用プロセス向けに設計された高周波(RF)電源です。主に研究開発用途や小型のスパッタリング装置、プラズマCVD装置、反応性イオンエッチング(RIE)装置などにおいて、プラズマを安定して発生・維持するための電力供給源として使用されます。
発振周波数は、プラズマプロセスにおいて工業用として国際的に割り当てられているISM帯の標準周波数である13.56MHzを採用しており、高いプラズマ生成効率とプロセスの再現性を提供します。最大出力は125Wとなっており、小径ターゲットを用いた実験室レベルの薄膜形成や、基板への熱ダメージ・プラズマダメージを最小限に抑えたい低出力での精密な処理に最適です。
出力インピーダンスは業界標準の50Ωに設定されており、専用のマッチングネットワーク(整合器)と組み合わせることで、プラズマ着火時やプロセス中の負荷変動に対しても、反射波を抑えた高効率で安定した電力供給が可能です。また、低出力モデルであるため冷却には空冷方式を採用しており、チラーなどの外部冷却水循環設備を必要とせず、研究室などの限られたスペースや設備環境でも容易に導入・運用できる設計となっています。
【AIによる参考仕様】
・発振周波数:13.56 MHz(ISM帯)
・最大出力:125 W
・出力インピーダンス:50 Ω
・発振方式:水晶発振方式
・冷却方式:空冷式
・適合プロセス:スパッタリング、プラズマCVD、ドライエッチング、プラズマアッシング等
・主な用途:研究開発向け小型真空装置、低出力プラズマ実験、表面改質処理
