中古機 RF電源 アネルバ　ANELVA製、型式PRF-125Cのご紹介

【AIによる装置概要】
本機は、真空成膜装置（スパッタリング装置やプラズマCVD装置）やドライエッチング装置において、安定したプラズマを発生・維持させるための高周波電源（RFパワーサプライ）です。各種の真空プロセスにおいて標準的に採用されている工業用周波数である13.56MHzの高周波電力を出力します。

本シリーズの中で最大定格出力125Wの中小出力帯に位置付けられており、小型チャンバーを用いた成膜プロセスや、微小な電力制御が求められる研究開発用・卓上型の真空プロセス装置に最適な設計となっています。専用のマッチングネットワーク（整合器）と組み合わせて使用することで、放電中のプラズマインピーダンスの変動に対しても、負荷側へ効率的かつ安定した電力供給を行うことが可能です。

本体のフロントパネルには、進行波（出力電力）と反射波（反射電力）の双方をリアルタイムで確認できるメーターが配置されており、プロセス中の直感的な電力監視が可能です。手動による細かな出力設定に加え、外部からのアナログ信号を用いたリモートコントロールにも対応しており、装置側のシステムと連動した自動制御が容易に行えます。また、プロセス中の異常放電や過大な反射電力を検知した際に即座に出力を遮断する保護回路（インターロック機能）を搭載しており、電源本体および周辺機器の焼損を防ぎ、長期間の運用における信頼性を確保しています。

【AIによる参考仕様】
・発振周波数：13.56 MHz（水晶発振制御）
・最大定格出力電力：125 W
・出力インピーダンス：50 Ω（不平衡）
・出力コネクタ：N型同軸コネクタ
・電力制御・操作方式：フロントパネルによる手動調整、および外部アナログ電圧信号によるリモート制御
・モニター機能：進行波電力（Forward）および反射波電力（Reflected）アナログメーター表示
・主な保護機能：過反射電力保護、過電流保護回路内蔵
・冷却方式：強制空冷機構
・主な適応プロセス：スパッタリング、プラズマCVD、プラズマアッシング、エッチングなどのRFプラズマ生成