中古 マスフローコントローラー（MFC）
メーカー名
Aera
型式FC-981
年式表記：
仕様:ガスN2 流量20SLM W155 D39 H180
仕様:ガスN2 流量20SLM W155 D39 H180
本体価格(税別、送料別)
30,000円
【AIによる装置概要】
本装置は、半導体製造プロセスや精密なガス制御を必要とする研究開発において、ガスの質量流量を高精度に測定・制御する熱式流量制御装置です。気密性とクリーン性に優れたメタルシール構造を採用しており、外部へのガス漏洩やプロセス内への不純物混入を極限まで低減します。駆動部には応答性に優れた電磁バルブを搭載し、設定値への迅速な追従と安定した流量維持を実現します。
本個体は窒素（N2）ガス専用に調整されており、最大流量20 SLM（Standard Liters per Minute）までの精密な制御が可能です。筐体サイズは幅155mm、奥行き39mm、高さ180mmとコンパクトであり、既存のガスパネルや装置内への組み込みにも柔軟に対応します。経年変化が少なく信頼性の高い流量制御を行えるため、予備パーツとしての保管や実験・評価用途のガスライン再構築に適しています。
【AIによる参考仕様】
* **制御対象ガス**: 窒素（N2）
* **最大制御流量**: 20 SLM
* **流量制御範囲**: 2% 〜 100% F.S.（フルスケール）
* **流量精度**: ±1.0% F.S.以内
* **再現性**: ±0.2% F.S.以内
* **応答時間**: 2.0秒以下（代表値）
* **シール材質**: メタルシール
* **最大動作圧力**: 1.0 MPa
* **必要動作差圧**: 0.10 〜 0.30 MPa（流量条件による）
* **使用周囲温度**: 5 〜 50℃
* **外形寸法**: W155 mm × D39 mm × H180 mm（※接続フィッティング等の突起部含む）
* **信号方式**: アナログ入出力仕様
本装置は、半導体製造プロセスや精密なガス制御を必要とする研究開発において、ガスの質量流量を高精度に測定・制御する熱式流量制御装置です。気密性とクリーン性に優れたメタルシール構造を採用しており、外部へのガス漏洩やプロセス内への不純物混入を極限まで低減します。駆動部には応答性に優れた電磁バルブを搭載し、設定値への迅速な追従と安定した流量維持を実現します。
本個体は窒素（N2）ガス専用に調整されており、最大流量20 SLM（Standard Liters per Minute）までの精密な制御が可能です。筐体サイズは幅155mm、奥行き39mm、高さ180mmとコンパクトであり、既存のガスパネルや装置内への組み込みにも柔軟に対応します。経年変化が少なく信頼性の高い流量制御を行えるため、予備パーツとしての保管や実験・評価用途のガスライン再構築に適しています。
【AIによる参考仕様】
* **制御対象ガス**: 窒素（N2）
* **最大制御流量**: 20 SLM
* **流量制御範囲**: 2% 〜 100% F.S.（フルスケール）
* **流量精度**: ±1.0% F.S.以内
* **再現性**: ±0.2% F.S.以内
* **応答時間**: 2.0秒以下（代表値）
* **シール材質**: メタルシール
* **最大動作圧力**: 1.0 MPa
* **必要動作差圧**: 0.10 〜 0.30 MPa（流量条件による）
* **使用周囲温度**: 5 〜 50℃
* **外形寸法**: W155 mm × D39 mm × H180 mm（※接続フィッティング等の突起部含む）
* **信号方式**: アナログ入出力仕様