中古 マスフローコントローラー(MFC)
メーカー名
Aera
型式FC-D980C
年式表記:
仕様:ガスAr 流量200SCCMW130 D40 H170
仕様:ガスAr 流量200SCCMW130 D40 H170
本体価格(税別、送料別)
30,000円
【AIによる装置概要】
本装置は、半導体製造プロセスや薄膜形成装置、各種真空装置等で広く使用されている高精度なデジタルマスフローコントローラーです。対象ガスはAr(アルゴン)に調整されており、最大200 SCCMまでの流量を精密に制御します。高速な応答性能と優れた再現性を備えており、微小流量域においても安定したプロセスガスの供給が可能です。また、高クリーン対応のメタルシール構造を採用しているため、外部へのガス漏洩を防ぎ、高真空環境下でも信頼性の高いクリーンなガスラインを構築できます。精密なガス流量管理が必要とされる実験設備から量産ラインまで、幅広い用途に対応する設計となっています。
【AIによる参考仕様】
* **対応ガス:** Ar(アルゴン)
* **最大流量:** 200 SCCM
* **外形寸法:** W130 × D40 × H170 mm
* **シール構造:** メタルシール
* **バルブ動作:** ノーマリークローズ(常時閉)
* **応答速度:** 1秒以下(代表値)
* **流量制御精度:** ±1.0% F.S.(フルスケール)
* **再現性:** ±0.2% F.S.
* **搭載通信インターフェース:** デジタル通信(DeviceNet等)
※上記仕様はメーカーの同系統シリーズにおける代表的な仕様値に基づいています。中古機器のため、個別の設定、キャリブレーション状況、コネクタのピンアサイン等については現物でのご確認を推奨いたします。
本装置は、半導体製造プロセスや薄膜形成装置、各種真空装置等で広く使用されている高精度なデジタルマスフローコントローラーです。対象ガスはAr(アルゴン)に調整されており、最大200 SCCMまでの流量を精密に制御します。高速な応答性能と優れた再現性を備えており、微小流量域においても安定したプロセスガスの供給が可能です。また、高クリーン対応のメタルシール構造を採用しているため、外部へのガス漏洩を防ぎ、高真空環境下でも信頼性の高いクリーンなガスラインを構築できます。精密なガス流量管理が必要とされる実験設備から量産ラインまで、幅広い用途に対応する設計となっています。
【AIによる参考仕様】
* **対応ガス:** Ar(アルゴン)
* **最大流量:** 200 SCCM
* **外形寸法:** W130 × D40 × H170 mm
* **シール構造:** メタルシール
* **バルブ動作:** ノーマリークローズ(常時閉)
* **応答速度:** 1秒以下(代表値)
* **流量制御精度:** ±1.0% F.S.(フルスケール)
* **再現性:** ±0.2% F.S.
* **搭載通信インターフェース:** デジタル通信(DeviceNet等)
※上記仕様はメーカーの同系統シリーズにおける代表的な仕様値に基づいています。中古機器のため、個別の設定、キャリブレーション状況、コネクタのピンアサイン等については現物でのご確認を推奨いたします。
