中古 マスフローコントローラー(MFC)
メーカー名
Aera
型式SOURCE VJ
年式表記:
仕様:ガス:N2 流量:150SCCM
仕様:ガス:N2 流量:150SCCM
本体価格(税別、送料別)
30,000円
【AIによる装置概要】
本装置は、半導体製造プロセスや精密な化学分析装置、各種真空成膜システムなどにおいて、ガス流量を正確に制御するために広く採用されている熱式マスフローコントローラ(MFC)です。ガス放出が極めて少なく、気密性と耐久性に優れたメタルシール構造を採用しているため、高純度プロセスや高真空を維持する必要があるガスラインに最適です。
本個体は、プロセスラインのパージ用やプロセス用として汎用性の高い窒素(N2)ガス仕様で、最大流量(フルスケール)は150周SCCMに設計されています。経年変化が少なく信頼性の高いアナログ制御方式により、迅速かつ安定した応答特性を発揮し、精密なガス流量制御を長期にわたりサポートします。
【AIによる参考仕様】
* **制御対象ガス**: 窒素(N2)
* **最大制御流量**: 150 SCCM
* **シール方式**: メタルシール
* **制御精度**: ±1.0% F.S.(フルスケール)
* **再現性**: ±0.2% F.S.
* **応答速度**: 2.0秒以下(定常値の98%に達するまでの時間)
* **動作差圧範囲**: 98 kPa 〜 294 kPa(標準的な動作仕様範囲)
* **耐圧**: 最大 1.0 MPa
* **外部リークレート**: 1 × 10⁻⁹ atm・cc/sec(He)以下
* **使用周囲温度**: 5 〜 50℃
* **標準継手仕様**: 1/4インチ VCR相当(メタルガスケットシール)
* **アナログ制御信号**: 0〜5 VDC(流量設定・出力信号)
本装置は、半導体製造プロセスや精密な化学分析装置、各種真空成膜システムなどにおいて、ガス流量を正確に制御するために広く採用されている熱式マスフローコントローラ(MFC)です。ガス放出が極めて少なく、気密性と耐久性に優れたメタルシール構造を採用しているため、高純度プロセスや高真空を維持する必要があるガスラインに最適です。
本個体は、プロセスラインのパージ用やプロセス用として汎用性の高い窒素(N2)ガス仕様で、最大流量(フルスケール)は150周SCCMに設計されています。経年変化が少なく信頼性の高いアナログ制御方式により、迅速かつ安定した応答特性を発揮し、精密なガス流量制御を長期にわたりサポートします。
【AIによる参考仕様】
* **制御対象ガス**: 窒素(N2)
* **最大制御流量**: 150 SCCM
* **シール方式**: メタルシール
* **制御精度**: ±1.0% F.S.(フルスケール)
* **再現性**: ±0.2% F.S.
* **応答速度**: 2.0秒以下(定常値の98%に達するまでの時間)
* **動作差圧範囲**: 98 kPa 〜 294 kPa(標準的な動作仕様範囲)
* **耐圧**: 最大 1.0 MPa
* **外部リークレート**: 1 × 10⁻⁹ atm・cc/sec(He)以下
* **使用周囲温度**: 5 〜 50℃
* **標準継手仕様**: 1/4インチ VCR相当(メタルガスケットシール)
* **アナログ制御信号**: 0〜5 VDC(流量設定・出力信号)
