中古 マスフローコントローラー(MFC)
メーカー名
堀場エステック Stec
型式SEC-4400ーMO
年式表記:
仕様:ガス:CHF3 流量:100SCCM
仕様:ガス:CHF3 流量:100SCCM
本体価格(税別、送料別)
30,000円
【AIによる装置概要】
本装置は、半導体製造プロセスなどの精密な気体制御が要求される環境で広く使用される、熱式質量流量コントローラです。制御対象ガスはCHF3(トリフルオロメタン)に調整されており、最大100SCCMまでの微小流量を高い精度で測定・制御することができます。
内部には、周囲の温度や圧力変動の影響を受けにくい高精度な熱式流量センサーと、応答性に優れた電磁駆動バルブを搭載しています。これにより、流量設定値の変更に対して1秒以内という迅速な応答速度を実現し、プロセスガスの安定した供給をサポートします。
また、本仕様は耐久性と高気密性を両立したメタルシール構造を採用しており、外部へのガス漏洩を最小限に抑える信頼性の高い設計となっています。上位システムとのインターフェースには、アナログおよびデジタル通信に対応するD-sub 9ピンコネクタを採用しており、正確な流量制御とモニタリングが可能です。
【AIによる参考仕様】
・制御対象ガス:CHF3(トリフルオロメタン)
・最大制御流量(フルスケール):100 SCCM
・制御範囲:2%〜100% F.S.(2〜100 SCCM)
・流量精度:±1.0% F.S.(フルスケールに対して)
・再現性:±0.2% F.S.
・応答速度:1.0秒以内
・バルブ駆動方式:電磁式バルブ(常時開:Normally Open 仕様)
・シール方式:メタルシール
・外部リークレート:1.0 × 10^-11 Pa・m3/sec (He) 以下
・動作差圧範囲:50 kPa〜300 kPa
・耐圧:980 kPa (G)
・動作環境:温度 5℃〜50℃(精度保証:15℃〜35℃)
・電気接続コネクタ:D-sub 9ピン(プラグ)
・必要電源:DC ±15V ±5%(消費電流:+15V 100mA / -15V 150mA)
・接ガス部主要材質:SUS316L、SUS316、Ni-Co合金
本装置は、半導体製造プロセスなどの精密な気体制御が要求される環境で広く使用される、熱式質量流量コントローラです。制御対象ガスはCHF3(トリフルオロメタン)に調整されており、最大100SCCMまでの微小流量を高い精度で測定・制御することができます。
内部には、周囲の温度や圧力変動の影響を受けにくい高精度な熱式流量センサーと、応答性に優れた電磁駆動バルブを搭載しています。これにより、流量設定値の変更に対して1秒以内という迅速な応答速度を実現し、プロセスガスの安定した供給をサポートします。
また、本仕様は耐久性と高気密性を両立したメタルシール構造を採用しており、外部へのガス漏洩を最小限に抑える信頼性の高い設計となっています。上位システムとのインターフェースには、アナログおよびデジタル通信に対応するD-sub 9ピンコネクタを採用しており、正確な流量制御とモニタリングが可能です。
【AIによる参考仕様】
・制御対象ガス:CHF3(トリフルオロメタン)
・最大制御流量(フルスケール):100 SCCM
・制御範囲:2%〜100% F.S.(2〜100 SCCM)
・流量精度:±1.0% F.S.(フルスケールに対して)
・再現性:±0.2% F.S.
・応答速度:1.0秒以内
・バルブ駆動方式:電磁式バルブ(常時開:Normally Open 仕様)
・シール方式:メタルシール
・外部リークレート:1.0 × 10^-11 Pa・m3/sec (He) 以下
・動作差圧範囲:50 kPa〜300 kPa
・耐圧:980 kPa (G)
・動作環境:温度 5℃〜50℃(精度保証:15℃〜35℃)
・電気接続コネクタ:D-sub 9ピン(プラグ)
・必要電源:DC ±15V ±5%(消費電流:+15V 100mA / -15V 150mA)
・接ガス部主要材質:SUS316L、SUS316、Ni-Co合金
