中古 マスフローコントローラー(MFC)
メーカー名
Aera
型式FC-260J
年式表記:
仕様:ガスPH3/N2 流量300SCCMW120 D25 H110
仕様:ガスPH3/N2 流量300SCCMW120 D25 H110
本体価格(税別、送料別)
30,000円
【AIによる装置概要】
本装置は、半導体製造プロセスや各種真空薄膜形成装置において長年の実績を持つ、高精度なアナログ制御方式のマスフローコントローラー(MFC)です。接ガス部には耐食性と低ガス放出性に優れたSUS316Lを採用しており、本個体の調整ガスである可燃性・毒性ガスのPH3(ホスフィン/窒素希釈)のような特殊材料ガスに対しても、優れた耐久性と安全性を発揮します。内部に搭載された熱式流量センサーと電磁式比例バルブの組み合わせにより、ガス流量を瞬時に検知・制御し、安定したプロセス環境を維持します。最大流量300 SCCMの微小・中流量域における精密なガス流量制御に適した設計となっています。
【AIによる参考仕様】
* **制御流量(フルスケール)**: 300 SCCM
* **対応ガス**: PH3 / N2 (ホスフィン / 窒素希釈ガス)
* **外形寸法**: W120 mm × D25 mm × H110 mm
* **接ガス部材質**: SUS316L(内面電解研磨処理)
* **流量制御範囲**: 2% 〜 100% F.S.(フルスケール)
* **精度**: ±1.0% F.S.
* **再現性**: ±0.2% F.S.
* **応答速度**: 2秒以下(典型値)
* **制御信号(入力・出力)**: アナログ DC 0 〜 5 V
* **駆動電源**: DC ±15 V ±5%
* **電気コネクタ**: D-sub 9ピン
* **バルブ動作**: 常時閉(ノーマルクローズ:N.C.)
* **最大動作圧力**: 300 kPa
* **耐圧**: 1.0 MPa
本装置は、半導体製造プロセスや各種真空薄膜形成装置において長年の実績を持つ、高精度なアナログ制御方式のマスフローコントローラー(MFC)です。接ガス部には耐食性と低ガス放出性に優れたSUS316Lを採用しており、本個体の調整ガスである可燃性・毒性ガスのPH3(ホスフィン/窒素希釈)のような特殊材料ガスに対しても、優れた耐久性と安全性を発揮します。内部に搭載された熱式流量センサーと電磁式比例バルブの組み合わせにより、ガス流量を瞬時に検知・制御し、安定したプロセス環境を維持します。最大流量300 SCCMの微小・中流量域における精密なガス流量制御に適した設計となっています。
【AIによる参考仕様】
* **制御流量(フルスケール)**: 300 SCCM
* **対応ガス**: PH3 / N2 (ホスフィン / 窒素希釈ガス)
* **外形寸法**: W120 mm × D25 mm × H110 mm
* **接ガス部材質**: SUS316L(内面電解研磨処理)
* **流量制御範囲**: 2% 〜 100% F.S.(フルスケール)
* **精度**: ±1.0% F.S.
* **再現性**: ±0.2% F.S.
* **応答速度**: 2秒以下(典型値)
* **制御信号(入力・出力)**: アナログ DC 0 〜 5 V
* **駆動電源**: DC ±15 V ±5%
* **電気コネクタ**: D-sub 9ピン
* **バルブ動作**: 常時閉(ノーマルクローズ:N.C.)
* **最大動作圧力**: 300 kPa
* **耐圧**: 1.0 MPa
