中古 マスフローコントローラー（MFC）
メーカー名
堀場エステック Stec
型式SEC-410LP
年式表記：
仕様:ガス:SiCl4 流量:300CCM
仕様:ガス:SiCl4 流量:300CCM
本体価格(税別、送料別)
30,000円
【AIによる装置概要】
本装置は、半導体や電子デバイス製造プロセスにおいて、低差圧環境下での精密なガス流量制御に特化したマスフローコントローラーです。常温での蒸気圧が極めて低く、気化供給システムを必要とするSiCl4（四塩化珪素）などの低蒸気圧・腐食性ガスの制御に最適化されています。独自のバルブ構造により、一次側圧力が極めて低い、あるいは真空に近い低差圧条件下でも、300 CCM（sccm）の流量を安定して精密に制御できます。ガス接液部にはメタルシール構造を採用しており、優れた気密性と高い耐食性を両立し、プロセスのクリーン化と安全なガス制御を実現します。
【AIによる参考仕様】
※以下はメーカー公表の同系統シリーズ仕様に基づいた参考値です。実際の製品仕様は、当時のカスタマイズ内容やご使用のガス種、環境等によって異なる場合があります。
* **制御対象ガス：** SiCl4（四塩化珪素、その他低蒸気圧・腐食性ガスに対応）
* **フルスケール流量：** 300 CCM (sccm)
* **シール材質：** メタルシール（高気密・高耐久仕様）
* **流量精度：** ±1.0% F.S. (フルスケール値に対する精度)
* **繰り返し性：** ±0.2% F.S.
* **応答速度：** 約2秒以下（設定値変更時の過渡応答時間）
* **動作差圧範囲：** 低差圧対応（低蒸気圧ガスの気化供給に最適化された極低差圧での動作が可能）
* **外部リークレート：** 1×10⁻¹¹ Pa・m³/sec (He) 以下
* **動作温度範囲：** 5℃ ～ 50℃
* **入力/出力信号（アナログ）：** 0～5V DC
* **継手サイズ：** 1/4インチ VCR相当（標準的メタル面シール継手）
本装置は、半導体や電子デバイス製造プロセスにおいて、低差圧環境下での精密なガス流量制御に特化したマスフローコントローラーです。常温での蒸気圧が極めて低く、気化供給システムを必要とするSiCl4（四塩化珪素）などの低蒸気圧・腐食性ガスの制御に最適化されています。独自のバルブ構造により、一次側圧力が極めて低い、あるいは真空に近い低差圧条件下でも、300 CCM（sccm）の流量を安定して精密に制御できます。ガス接液部にはメタルシール構造を採用しており、優れた気密性と高い耐食性を両立し、プロセスのクリーン化と安全なガス制御を実現します。
【AIによる参考仕様】
※以下はメーカー公表の同系統シリーズ仕様に基づいた参考値です。実際の製品仕様は、当時のカスタマイズ内容やご使用のガス種、環境等によって異なる場合があります。
* **制御対象ガス：** SiCl4（四塩化珪素、その他低蒸気圧・腐食性ガスに対応）
* **フルスケール流量：** 300 CCM (sccm)
* **シール材質：** メタルシール（高気密・高耐久仕様）
* **流量精度：** ±1.0% F.S. (フルスケール値に対する精度)
* **繰り返し性：** ±0.2% F.S.
* **応答速度：** 約2秒以下（設定値変更時の過渡応答時間）
* **動作差圧範囲：** 低差圧対応（低蒸気圧ガスの気化供給に最適化された極低差圧での動作が可能）
* **外部リークレート：** 1×10⁻¹¹ Pa・m³/sec (He) 以下
* **動作温度範囲：** 5℃ ～ 50℃
* **入力/出力信号（アナログ）：** 0～5V DC
* **継手サイズ：** 1/4インチ VCR相当（標準的メタル面シール継手）