中古機 マスフローコントローラー（MFC） 日立金属製、型式FCPI 980のご紹介

【AIによる装置概要】
本装置は、半導体・電子デバイス製造プロセス等で使用される高精度なガス流量制御システム（マニホールド1式仕様）です。供給一次側および二次側の急激な圧力変動に対して、流量制御への影響を極めて小さく抑える「圧力変動影響抑制（Pressure Insensitive：PI）」機能を搭載している点が大きな特徴です。これにより、プロセス中のバルブ開閉やガス切り替え時に発生する過渡的な圧力変化下でも、設定された流量を迅速かつ安定して維持し、プロセスの再現性向上に貢献します。また、接ガス部には高い耐食性を誇る金属材料を採用しており、塩素やフッ素系などの腐食性・反応性ガスに対しても優れた信頼性と耐久性を発揮します。本製品は、不活性ガスから各種プロセスガスまでを含む多系統（8系統）の独立したラインで構築されており、それぞれのガス種に最適化された個別の流量レンジ（10 sccm〜5000 sccm）で構成されています。

【AIによる参考仕様】
・制御機能：圧力変動影響抑制（PI）機能搭載デジタル流量制御
・マニホールド構成：計8系統
・搭載ガス種および最大制御流量（フルスケール）：
- 系統1：C4F8（オクタフルオロシクロブタン） / 50 sccm
- 系統2：SF6（六フッ化硫黄） / 500 sccm
- 系統3：N2（窒素） / 200 sccm
- 系統4：BCl3（三塩化ホウ素） / 200 sccm
- 系統5：ClF3（三フッ化塩素） / 500 sccm
- 系統6：Cl2（塩素） / 200 sccm
- 系統7：O2（酸素） / 5000 sccm
- 系統8：N2（窒素） / 10 sccm
・接ガス部材質：高耐食性特殊ステンレス鋼（SUS316L等、ダブルメルト材対応仕様）
・シール方式：メタルシール仕様
・応答速度：1.0秒以下（高速制御）
・流量精度：±1.0% F.S.（フルスケール）以下（代表的な製品仕様に基づく）
・用途：半導体、液晶、各種電子デバイス製造プロセス用ガスライン