中古 マスフローコントローラー（MFC）
メーカー名
堀場エステック Stec
型式SEC-4400RC
年式表記：
仕様:ガス：N2 流量：50SCCM
仕様:ガス：N2 流量：50SCCM
本体価格(税別、送料別)
30,000円
【AIによる装置概要】
本装置は、半導体製造プロセス、真空装置、分析機器などにおいて、プロセスの微小ガス流量制御に用いられるマスフローコントローラーです。熱式流量センサーと比例制御バルブを一体化しており、ガスの質量流量を高精度に計測・制御します。
アナログ信号（0～5 VDC）およびデジタル通信の双方に対応しており、既存の制御システムや各種産業機器への組み込みが容易に行える設計となっています。流量制御範囲はフルスケールの2～100%であり、設定値に対する応答速度は1.0秒以内と、高速なフィードバック制御を実現しています。また、流量精度は±1.0% F.S.、再現性は±0.2% F.S.を確保しており、安定したガス供給が求められる精密なプロセス制御に適しています。
内部の接ガス部材質にはSUS316Lや磁性ステンレスが採用され、耐食性が考慮されています。なお、MFCは個体ごとに「対応ガス種（N2、Ar、O2など）」「フルスケール流量レンジ」「継手形状」が細かく設定されているため、実際のシステムへ導入・交換される際は、実機ラベルに記載されているキャリブレーション情報をご確認ください。
【AIによる参考仕様】
流量制御範囲：2 ～ 100% F.S.
流量精度：±1.0% F.S.
応答速度：1.0秒以内
再現性：±0.2% F.S.
リニアリティ：±0.5% F.S.
動作温度範囲：5 ～ 50℃
許容耐圧：1.0 MPa(G)
アナログ入出力信号：0 ～ 5 VDC
駆動電源：±15 VDC (±5%)
バルブ形式：ノーマリークローズ（非通電時閉）
主な接ガス部材質：SUS316L、磁性ステンレス、FKM等
本装置は、半導体製造プロセス、真空装置、分析機器などにおいて、プロセスの微小ガス流量制御に用いられるマスフローコントローラーです。熱式流量センサーと比例制御バルブを一体化しており、ガスの質量流量を高精度に計測・制御します。
アナログ信号（0～5 VDC）およびデジタル通信の双方に対応しており、既存の制御システムや各種産業機器への組み込みが容易に行える設計となっています。流量制御範囲はフルスケールの2～100%であり、設定値に対する応答速度は1.0秒以内と、高速なフィードバック制御を実現しています。また、流量精度は±1.0% F.S.、再現性は±0.2% F.S.を確保しており、安定したガス供給が求められる精密なプロセス制御に適しています。
内部の接ガス部材質にはSUS316Lや磁性ステンレスが採用され、耐食性が考慮されています。なお、MFCは個体ごとに「対応ガス種（N2、Ar、O2など）」「フルスケール流量レンジ」「継手形状」が細かく設定されているため、実際のシステムへ導入・交換される際は、実機ラベルに記載されているキャリブレーション情報をご確認ください。
【AIによる参考仕様】
流量制御範囲：2 ～ 100% F.S.
流量精度：±1.0% F.S.
応答速度：1.0秒以内
再現性：±0.2% F.S.
リニアリティ：±0.5% F.S.
動作温度範囲：5 ～ 50℃
許容耐圧：1.0 MPa(G)
アナログ入出力信号：0 ～ 5 VDC
駆動電源：±15 VDC (±5%)
バルブ形式：ノーマリークローズ（非通電時閉）
主な接ガス部材質：SUS316L、磁性ステンレス、FKM等