中古 マスフローコントローラー（MFC）
メーカー名
Aera
型式FC-780C
年式表記：
仕様:ガス:CL2 流量:200SCCM
仕様:ガス:CL2 流量:200SCCM
本体価格(税別、送料別)
30,000円
【AIによる装置概要】
本装置は、半導体製造や各種薄膜堆積プロセスにおいて、気体（ガス）の質量流量を高精度に測定・制御するために設計されたアナログ式マスフローコントローラー（MFC）です。腐食性ガスである塩素（CL2）に対応した設計となっており、接ガス部には高い耐食性を持つ材質が採用されています。最大流量200 SCCM（標準状態における毎分立方センチメートル）の範囲内で、ガス流量を±1.0% F.S.の高精度でコントロールします。迅速な応答性能を誇り、設定値変更に対して約2秒以内で安定した流量制御を実現します。産業用プロセスにおいて長年の実績があり、アナログ信号によるシンプルなシステム構築や、既存設備へのリプレイスに適した信頼性の高いデバイスです。
【AIによる参考仕様】
* **対応ガス種:** CL2（塩素）
* **最大制御流量:** 200 SCCM
* **流量制御範囲:** 2% 〜 100% F.S.（4 〜 200 SCCM）
* **精度:** ±1.0% F.S.
* **直線性:** ±0.5% F.S.
* **再現性:** ±0.2% F.S.
* **応答時間:** 2.0秒以下（設定値の±2%以内への到達時間）
* **動作温度範囲:** 5℃ 〜 50℃
* **動作差圧範囲:** 約 50 kPa 〜 300 kPa
* **耐圧力:** 最大 1.0 MPa
* **外部リーク量:** 1×10⁻⁶ Pa・m³/sec He 以下
* **制御信号（入力/出力）:** 0 〜 5 VDC
* **供給電源:** ±15 VDC (±5%)
* **シール材質:** エラストマーシール（耐食フッ素ゴム等）
本装置は、半導体製造や各種薄膜堆積プロセスにおいて、気体（ガス）の質量流量を高精度に測定・制御するために設計されたアナログ式マスフローコントローラー（MFC）です。腐食性ガスである塩素（CL2）に対応した設計となっており、接ガス部には高い耐食性を持つ材質が採用されています。最大流量200 SCCM（標準状態における毎分立方センチメートル）の範囲内で、ガス流量を±1.0% F.S.の高精度でコントロールします。迅速な応答性能を誇り、設定値変更に対して約2秒以内で安定した流量制御を実現します。産業用プロセスにおいて長年の実績があり、アナログ信号によるシンプルなシステム構築や、既存設備へのリプレイスに適した信頼性の高いデバイスです。
【AIによる参考仕様】
* **対応ガス種:** CL2（塩素）
* **最大制御流量:** 200 SCCM
* **流量制御範囲:** 2% 〜 100% F.S.（4 〜 200 SCCM）
* **精度:** ±1.0% F.S.
* **直線性:** ±0.5% F.S.
* **再現性:** ±0.2% F.S.
* **応答時間:** 2.0秒以下（設定値の±2%以内への到達時間）
* **動作温度範囲:** 5℃ 〜 50℃
* **動作差圧範囲:** 約 50 kPa 〜 300 kPa
* **耐圧力:** 最大 1.0 MPa
* **外部リーク量:** 1×10⁻⁶ Pa・m³/sec He 以下
* **制御信号（入力/出力）:** 0 〜 5 VDC
* **供給電源:** ±15 VDC (±5%)
* **シール材質:** エラストマーシール（耐食フッ素ゴム等）