中古 マスフローコントローラー（MFC）
メーカー名
堀場エステック Stec
型式SEC-4400RC
年式表記：
仕様:ガス：Ar 流量：100SCCM
仕様:ガス：Ar 流量：100SCCM
本体価格(税別、送料別)
30,000円
【AIによる装置概要】
本装置は、半導体製造装置や各種産業用プロセスにおいて、気体の質量流量を精密に測定・制御するためのマスフローコントローラーです。内部にピエゾアクチュエータを利用した高速駆動バルブと高度なデジタルPID制御回路を搭載しており、設定した流量に対して1秒以内という極めて迅速な応答性能を発揮します。
流量制御範囲はフルスケール（F.S.）の2%から100%と広範にわたるため、プロセス中の微小な流量変化から最大流量まで、安定的かつシームレスなガス供給を実現します。流量精度は±1.0% F.S.、再現性は±0.2% F.S.を達成しており、厳格なガス流量管理が求められる成膜プロセスやエッチング工程などにおいても高い信頼性を提供します。
本モデルはラバーシール（Oリング）を採用した構造であり、接ガス部にはSUS316Lなどの耐食性に優れたステンレス材料が使用されています。これにより、非腐食性ガスから各種プロセスガスまで幅広い流体に対応可能です。制御インターフェースは一般的なアナログ入出力（0～5VDC）を備えるほか、デジタル通信にも対応しており、上位のPLCや制御システムとの連携、リアルタイムなステータス監視が容易に行える設計となっています。研究開発用途から量産ラインのガス供給ユニットまで、汎用性の高い流量制御デバイスとして活用できます。
【AIによる参考仕様】
流量制御範囲：2% ～ 100% F.S.
流量精度：±1.0% F.S.
再現性：±0.2% F.S.
応答速度：1秒以内
動作差圧：50 kPa ～ 300 kPa
耐圧：1.0 MPa(G)
許容周囲温度：5℃ ～ 50℃
シール材質：ラバーシール（FKM等）
接ガス部材質：SUS316L、磁性ステンレス鋼等
アナログ入出力信号：0 ～ 5 VDC
所要電源：±15 VDC
バルブ形式：ノーマルクローズ（N.C.）
外部リークレート：1×10^-8 Pa・m³/s (He) 以下
本装置は、半導体製造装置や各種産業用プロセスにおいて、気体の質量流量を精密に測定・制御するためのマスフローコントローラーです。内部にピエゾアクチュエータを利用した高速駆動バルブと高度なデジタルPID制御回路を搭載しており、設定した流量に対して1秒以内という極めて迅速な応答性能を発揮します。
流量制御範囲はフルスケール（F.S.）の2%から100%と広範にわたるため、プロセス中の微小な流量変化から最大流量まで、安定的かつシームレスなガス供給を実現します。流量精度は±1.0% F.S.、再現性は±0.2% F.S.を達成しており、厳格なガス流量管理が求められる成膜プロセスやエッチング工程などにおいても高い信頼性を提供します。
本モデルはラバーシール（Oリング）を採用した構造であり、接ガス部にはSUS316Lなどの耐食性に優れたステンレス材料が使用されています。これにより、非腐食性ガスから各種プロセスガスまで幅広い流体に対応可能です。制御インターフェースは一般的なアナログ入出力（0～5VDC）を備えるほか、デジタル通信にも対応しており、上位のPLCや制御システムとの連携、リアルタイムなステータス監視が容易に行える設計となっています。研究開発用途から量産ラインのガス供給ユニットまで、汎用性の高い流量制御デバイスとして活用できます。
【AIによる参考仕様】
流量制御範囲：2% ～ 100% F.S.
流量精度：±1.0% F.S.
再現性：±0.2% F.S.
応答速度：1秒以内
動作差圧：50 kPa ～ 300 kPa
耐圧：1.0 MPa(G)
許容周囲温度：5℃ ～ 50℃
シール材質：ラバーシール（FKM等）
接ガス部材質：SUS316L、磁性ステンレス鋼等
アナログ入出力信号：0 ～ 5 VDC
所要電源：±15 VDC
バルブ形式：ノーマルクローズ（N.C.）
外部リークレート：1×10^-8 Pa・m³/s (He) 以下