中古 マスフローコントローラー(MFC)
メーカー名
Aera
型式FC-D980C
年式表記:
仕様:ガスHe 流量200SCCMW130 D40 H170
仕様:ガスHe 流量200SCCMW130 D40 H170
本体価格(税別、送料別)
30,000円
【AIによる装置概要】
本装置は、極めて高い気密性と制御信頼性が要求される半導体製造プロセス等で実績を持つ、熱式質量流量コントローラー(MFC)です。接ガス部にはメタルシール構造を採用しており、外部へのガス漏洩を最小限に抑え、高真空環境における不純物の混入を徹底して防ぎます。
本個体は、ガス制御において熱伝導性に優れ、リークテストやキャリアガスとして多用されるヘリウム(He)ガス専用として調整されています。最大流量は200 SCCM仕様となっており、微小なガス流量に対しても安定した高精度なコントロールが可能です。高速応答性能を備え、設定値への迅速な到達(約1秒以下)を実現するため、プロセス時間の短縮やステップ移行時の安定化に寄与します。幅130mm、奥行40mm、高さ170mmのコンパクトな筐体設計により、限られたガスパネル内スペースへの統合・配置にも適しています。
【AIによる参考仕様】
* **対象ガス:** ヘリウム(He)
* **最大制御流量:** 200 SCCM(Standard Cubic Centimeters per Minute)
* **シール構造:** メタルシール仕様
* **制御精度:** ±1.0% F.S.(フルスケール)
* **再現性:** ±0.2% F.S.
* **応答速度:** 1秒以下(代表値)
* **外形寸法:** 幅 130 mm × 奥行 40 mm × 高さ 170 mm(突起部含む)
* **動作温度範囲:** 5~50℃(結露なきこと)
* **主な用途:** 半導体製造装置、各種真空蒸着装置、分析機器、研究開発用のガス供給ライン等における高精度流量制御
本装置は、極めて高い気密性と制御信頼性が要求される半導体製造プロセス等で実績を持つ、熱式質量流量コントローラー(MFC)です。接ガス部にはメタルシール構造を採用しており、外部へのガス漏洩を最小限に抑え、高真空環境における不純物の混入を徹底して防ぎます。
本個体は、ガス制御において熱伝導性に優れ、リークテストやキャリアガスとして多用されるヘリウム(He)ガス専用として調整されています。最大流量は200 SCCM仕様となっており、微小なガス流量に対しても安定した高精度なコントロールが可能です。高速応答性能を備え、設定値への迅速な到達(約1秒以下)を実現するため、プロセス時間の短縮やステップ移行時の安定化に寄与します。幅130mm、奥行40mm、高さ170mmのコンパクトな筐体設計により、限られたガスパネル内スペースへの統合・配置にも適しています。
【AIによる参考仕様】
* **対象ガス:** ヘリウム(He)
* **最大制御流量:** 200 SCCM(Standard Cubic Centimeters per Minute)
* **シール構造:** メタルシール仕様
* **制御精度:** ±1.0% F.S.(フルスケール)
* **再現性:** ±0.2% F.S.
* **応答速度:** 1秒以下(代表値)
* **外形寸法:** 幅 130 mm × 奥行 40 mm × 高さ 170 mm(突起部含む)
* **動作温度範囲:** 5~50℃(結露なきこと)
* **主な用途:** 半導体製造装置、各種真空蒸着装置、分析機器、研究開発用のガス供給ライン等における高精度流量制御
