中古 マスフローコントローラー(MFC)
メーカー名
Unit
型式UFC-1100
年式表記:
仕様:ガス:SiH4 流量:500SCCM
仕様:ガス:SiH4 流量:500SCCM
本体価格(税別、送料別)
30,000円
【AIによる装置概要】
本装置は、半導体製造や薄膜形成プロセスにおいて欠かせない、極めて高い信頼性を誇るアナログ制御式のマスフローコントローラーです。ガス種は「SiH4(モノシラン)」に対応し、フルスケール「500 SCCM」の流量制御能力を有しています。
内部に搭載された高精度な熱式質量流量センサーと電磁式コントロールバルブにより、周囲の温度や圧力の変動に左右されることなく、常に安定したガス流量を維持します。優れた再現性と2秒以下という迅速な応答性を兼ね備えており、微細なプロセス管理が要求される研究開発から生産ラインまで幅広く対応可能です。耐久性に優れた頑丈なメタルボディ構造を採用しており、経年変化が少なく長期にわたり安定稼働をサポートするロングセラーモデルの1台です。
【AIによる参考仕様】
・対応ガス:SiH4(モノシラン)
・最大制御流量:500 SCCM(N2換算・実ガス流量は実機仕様に準ずる)
・流量制御範囲:2% 〜 100% F.S.
・精度:±1.0% F.S.(フルスケール)
・直線性:±0.5% F.S.
・再現性:±0.15% F.S.
・応答時間:2.0秒以下(セットポイントの±2%以内)
・動作差圧範囲:70 kPa 〜 275 kPa(10 psi 〜 40 psi)
・耐圧性能:最大動作圧力 1,030 kPa(150 psig) / 耐圧 3,450 kPa(500 psig)
・外部リークレート:1×10⁻⁹ atm cc/sec(He)以下
・シール材質:エラストマー(ガス適合仕様)
・制御信号(入力/出力):0 〜 5 VDC
・駆動電源:+15 VDC(30 mA) / -15 VDC(150 mA)
※中古機器の性質上、実際のコネクタピン配置(カードエッジまたはD-subなど)や継手形状(VCRなど)は、現物機体の写真および仕様を必ずご確認ください。
本装置は、半導体製造や薄膜形成プロセスにおいて欠かせない、極めて高い信頼性を誇るアナログ制御式のマスフローコントローラーです。ガス種は「SiH4(モノシラン)」に対応し、フルスケール「500 SCCM」の流量制御能力を有しています。
内部に搭載された高精度な熱式質量流量センサーと電磁式コントロールバルブにより、周囲の温度や圧力の変動に左右されることなく、常に安定したガス流量を維持します。優れた再現性と2秒以下という迅速な応答性を兼ね備えており、微細なプロセス管理が要求される研究開発から生産ラインまで幅広く対応可能です。耐久性に優れた頑丈なメタルボディ構造を採用しており、経年変化が少なく長期にわたり安定稼働をサポートするロングセラーモデルの1台です。
【AIによる参考仕様】
・対応ガス:SiH4(モノシラン)
・最大制御流量:500 SCCM(N2換算・実ガス流量は実機仕様に準ずる)
・流量制御範囲:2% 〜 100% F.S.
・精度:±1.0% F.S.(フルスケール)
・直線性:±0.5% F.S.
・再現性:±0.15% F.S.
・応答時間:2.0秒以下(セットポイントの±2%以内)
・動作差圧範囲:70 kPa 〜 275 kPa(10 psi 〜 40 psi)
・耐圧性能:最大動作圧力 1,030 kPa(150 psig) / 耐圧 3,450 kPa(500 psig)
・外部リークレート:1×10⁻⁹ atm cc/sec(He)以下
・シール材質:エラストマー(ガス適合仕様)
・制御信号(入力/出力):0 〜 5 VDC
・駆動電源:+15 VDC(30 mA) / -15 VDC(150 mA)
※中古機器の性質上、実際のコネクタピン配置(カードエッジまたはD-subなど)や継手形状(VCRなど)は、現物機体の写真および仕様を必ずご確認ください。
